杭州富芯半导体有限公司何晶洋获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州富芯半导体有限公司申请的专利一种用于光刻机镜头的清洁装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223775631U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423158248.9，技术领域涉及：B08B11/00；该实用新型一种用于光刻机镜头的清洁装置是由何晶洋设计研发完成，并于2024-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于光刻机镜头的清洁装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种用于光刻机镜头的清洁装置，可拆卸设置于光刻机镜头上，包括清洁腔体、第一管路和排放管路；所述清洁腔体具有用于与所述光刻机镜头密封连接的端口；所述第一管路的进口用于与清洁介质储存装置连通，所述第一管路的出口与所述清洁腔体可通断连通；所述排放管路与所述清洁腔体可通断连通，且所述排放管路位于所述清洁腔体的底端。本实用新型的清洁腔体通过端口与光刻机镜头密封连接，利用第一管路向清洁腔体中通入清洁介质，有效清洁光刻机镜头表面的光阻残留和结晶，并通过设置在清洁腔体底端的排放管路将清洁介质排出，减少清洁介质残留，结构简单，清洁方便快捷，有利于提升具有该清洁装置的光刻机的光刻质量和制备良率。
本实用新型一种用于光刻机镜头的清洁装置在权利要求书中公布了：1.一种用于光刻机镜头的清洁装置，可拆卸设置于光刻机镜头1上，其特征在于，包括清洁腔体2、第一管路3和排放管路4； 所述清洁腔体2具有用于与所述光刻机镜头1密封连接的端口21； 所述第一管路3的进口用于与清洁介质储存装置连通，所述第一管路3的出口与所述清洁腔体2可通断连通； 所述排放管路4与所述清洁腔体2可通断连通，且所述排放管路4位于所述清洁腔体2的底端。
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