微晶半导体材料(苏州)有限公司阮加龙获国家专利权
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龙图腾网获悉微晶半导体材料(苏州)有限公司申请的专利一种光刻胶喷头的清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223775492U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520038404.3，技术领域涉及：B08B1/32；该实用新型一种光刻胶喷头的清洗装置是由阮加龙设计研发完成，并于2025-01-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光刻胶喷头的清洗装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种光刻胶喷头的清洗装置，涉及光刻胶喷头清洗技术领域，包括第一连接座、清洗座、第二连接座、多个定位单元、清扫单元和清洗单元，所述第一连接座上传动连接有第一推动座。本实用新型的有益效果，通过设置定位单元和清扫单元，当调节座进行移动带动推动架进行移动，此时推动架沿着转动轴的外周壁进行滑动，当推动架进行对挤压弹簧进行压缩，在挤压弹簧的反弹下，对相邻的清扫辊进行压缩，在多个挤压弹簧同时被压缩，且压缩程度相同，保证了多个清扫辊的间距相同，通过调节两侧的推动架移动，使得多个清扫辊均匀分布在光刻胶喷头的上方，方便对不同尺寸的光刻胶喷头进行清洗。
本实用新型一种光刻胶喷头的清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种光刻胶喷头的清洗装置，包括第一连接座1、清洗座2、第二连接座3、多个定位单元7、清扫单元8和清洗单元9，所述第一连接座1上传动连接有第一推动座4，所述第一推动座4与气缸输出端相连接，所述多个定位单元7设置在第一连接座1上，所述清扫单元8处于多个定位单元7上，所述清洗单元9处于清洗座2上，其特征在于： 所述定位单元7包括滑动连接在第一连接座1上的接触座701，所述接触座701的内壁上固定连接有限定弹簧703，所述限定弹簧703的另一端固定连接有调节座704； 所述清扫单元8包括固定连接在第一连接座1上的推动架802，所述推动架802的内壁上滑动连接有多个清扫辊804； 所述清洗单元9包括滑动连接在清洗座2上的多个清洗喷头903，所述清洗喷头903的外壁上固定连接有从水管902，所述从水管902与清洗喷头903相连通。
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