芯钛科半导体设备(上海)有限公司沈凯获国家专利权
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龙图腾网获悉芯钛科半导体设备(上海)有限公司申请的专利一种高速旋转的旋涂机构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223775272U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422948232.1,技术领域涉及:B05C13/02;该实用新型一种高速旋转的旋涂机构是由沈凯设计研发完成,并于2024-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高速旋转的旋涂机构在说明书摘要公布了:本实用新型涉及旋涂设备的技术领域,具体公开了一种高速旋转的旋涂机构,包括涂料组件,回收组件和位移组件,回收组件位于涂料组件下方,涂料组件固定连接于位移组件上方的输出端;涂料组件包括晶圆、晶圆载盘、挡圈、真空导孔和支架,晶圆载盘通过真空导孔将真空导至晶圆载盘的上端面。本实用新型能够实现设备可以进行上下升降运动,晶圆载盘上升到高处时,晶圆载盘比挡圈高,方便机械手上下料,避免机械手和挡圈相互干涉,晶圆与下料机构的出料口距离近,涂料效果好;晶圆载盘下降到低处时,晶圆载盘比挡圈低,旋涂时受离心力飞溅的涂料会被挡圈挡住,避免涂料飞溅到挡圈之外的设备其他部位,使设备污染和受损。
本实用新型一种高速旋转的旋涂机构在权利要求书中公布了:1.一种高速旋转的旋涂机构,其特征在于:包括涂料组件,回收组件和位移组件,所述回收组件位于所述涂料组件下方,所述涂料组件固定连接于所述位移组件上方的输出端; 所述涂料组件包括晶圆1、晶圆载盘2、挡圈3、真空导孔7和支架10,所述晶圆载盘2通过所述真空导孔7将真空导至所述晶圆载盘2的上端面,使晶圆载盘2将晶圆1吸附在晶圆载盘2的上端面,所述挡圈3固定连接于支架10的上表面。
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