中芯国际集成电路制造(深圳)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司张天宝获国家专利权
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龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(深圳)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请的专利应用于半导体设备的喷嘴清洁装置和半导体设备系统获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223775160U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520008118.2,技术领域涉及:B05B15/55;该实用新型应用于半导体设备的喷嘴清洁装置和半导体设备系统是由张天宝;陈家柱;华光泽;黄兴邦设计研发完成,并于2025-01-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本应用于半导体设备的喷嘴清洁装置和半导体设备系统在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种应用于半导体设备的喷嘴清洁装置和半导体设备系统,该喷嘴清洁装置包括防溅射组件,所述防溅射组件设有容纳腔,所述容纳腔用于至少容纳待清洁的多个喷嘴;清洁组件,所述清洁组件包括喷头和辅助清洁单元,所述喷头与所述辅助清洁单元通过管道连接,所述喷头的头部至少部分伸入所述容纳腔内;其中,所述辅助清洁单元被配置为通过所述管道给所述喷头输送用于清洁所述多个喷嘴的清洁对象,所述喷头被配置为面向所述多个喷嘴喷射所述清洁对象。本实用新型的喷嘴清洁装置的清洗耗时短且设备开销小。
本实用新型应用于半导体设备的喷嘴清洁装置和半导体设备系统在权利要求书中公布了:1.一种应用于半导体设备的喷嘴清洁装置,其特征在于,包括: 防溅射组件,所述防溅射组件设有容纳腔,所述容纳腔用于至少容纳待清洁的多个喷嘴; 清洁组件,所述清洁组件包括喷头和辅助清洁单元,所述喷头与所述辅助清洁单元通过管道连接,所述喷头的头部至少部分伸入所述容纳腔内; 其中,所述辅助清洁单元被配置为通过所述管道给所述喷头输送用于清洁所述多个喷嘴的清洁对象,所述喷头被配置为面向所述多个喷嘴喷射所述清洁对象。
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