上海邦芯半导体科技有限公司蔡宗祐获国家专利权
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龙图腾网获悉上海邦芯半导体科技有限公司申请的专利石英部件及保护方法、等离子体设备及等离子体处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120977857B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511483557.X，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权石英部件及保护方法、等离子体设备及等离子体处理方法是由蔡宗祐;王兆祥;梁洁;彭国发;方文强;黄海栋设计研发完成，并于2025-10-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本石英部件及保护方法、等离子体设备及等离子体处理方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种石英部件及保护方法、等离子体设备及等离子体处理方法，应用于半导体加工设备技术领域。其中，保护方法包括：采用溴基等离子体选择性去除石英部件表面既有的金属化合物钝化层；随后，沉积新的金属化合物钝化层，利用新的金属化合物钝化层提供抗氟侵蚀保护。通过金属化合物钝化层对氟基等离子体的刻蚀速率远低于其对石英材料的刻蚀速率，且对氢、氧等离子体具有优异的阻隔性能，只需要清洗和再沉积的循环过程，能够在每次工艺前形成一致的腔室环境提供保护，有效保护石英部件免受侵蚀性等离子体攻击，显著延长其寿命，减少工艺微粒，提高工艺稳定性。
本发明授权石英部件及保护方法、等离子体设备及等离子体处理方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理设备内石英部件保护方法，其特征在于，包括： 若干个溴基等离子体清洗步骤：向置有石英部件的处理腔室通入含溴工艺气体并激发等离子体，以利用溴基等离子体选择性去除石英部件表面上耐氟侵蚀性钝化层，其中所述钝化层为在氟基等离子体工艺中抗氟侵蚀的致密钝化层； 若干个沉积步骤：在所述溴基等离子体清洗后，在石英部件表面重新沉积新的钝化层，以利用所述钝化层在氟基等离子体工艺中抑制氟基等离子体侵蚀石英部件； 其中，所述若干个溴基等离子体清洗步骤和所述若干个沉积步骤均在所述等离子体处理设备腔室内执行，以使所述等离子体处理设备能够保持在生产线上对腔内的石英部件进行表面保护处理。
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