陕西澳威激光科技有限公司石元获国家专利权
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龙图腾网获悉陕西澳威激光科技有限公司申请的专利一种高折射率光学涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120866783B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511374801.9，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种高折射率光学涂层及其制备方法是由石元;刘金超;陶家勇;高建峰;惠铁雄设计研发完成，并于2025-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高折射率光学涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种高折射率光学涂层及其制备方法，属于光学涂层技术领域，包括以下步骤：将聚偏氟乙烯经硅烷化和稀土修饰制得改性聚偏氟乙烯；将二氧化锆喷涂到光学基板上形成基底层；遮挡基底层的边缘部分，将改性聚偏氟乙烯旋涂到基底层的中间部分制得功能区；露出基底层的边缘部分，遮挡基底层的中间部分，将羟基化聚偏氟乙烯旋涂到基底层的边缘部分，经过三段恒温处理后制得强化区，功能区和强化区共同构成中间层；在中间层上沉积氧化铝形成表面层，得到高折射率光学涂层。该光学涂层具有高折射率的同时，具有良好的结构稳定性。
本发明授权一种高折射率光学涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高折射率光学涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、将聚偏氟乙烯粉末真空脱水等离子体活化后，浸入氨丙基三乙氧基硅烷乙醇溶液中，加热搅拌，离心分离，乙醇洗涤，真空干燥得到硅烷化聚偏氟乙烯；将硅烷化聚偏氟乙烯加入氯化镧溶液中，振荡，调节pH至碱性，高温反应，洗涤，真空干燥，获得改性聚偏氟乙烯； S2、将二氧化锆喷涂到光学基板表面形成基底层； S3、遮挡基底层的边缘部分，将改性聚偏氟乙烯旋涂到基底层的中间部分，制得功能区；露出基底层的边缘部分，遮挡基底层的中间部分，将羟基化聚偏氟乙烯旋涂到基底层的边缘部分，经过三段恒温处理后制得强化区，功能区和强化区共同构成中间层； S4、在中间层上沉积氧化铝形成表面层，得到高折射率光学涂层。
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