陕西澳威激光科技有限公司石元获国家专利权
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龙图腾网获悉陕西澳威激光科技有限公司申请的专利一种光模块涂层及其制备工艺获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120796913B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511312028.3,技术领域涉及:C23C14/10;该发明授权一种光模块涂层及其制备工艺是由石元;田俊平;李智;王苑亮设计研发完成,并于2025-09-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光模块涂层及其制备工艺在说明书摘要公布了:本发明提供一种光模块涂层及其制备工艺,属于涂料技术领域,包括以下步骤:步骤S1、将清洗后的光模块进行等离子体活化,之后滴加UV树脂进行旋涂,固化,脱模,得到预处理光模块;步骤S2、制备具有亚波长结构涂层的光模块;步骤S3、制备带有初步涂层的光模块;步骤S4、采用氯化钾悬浮液对带有初步涂层的光模块进行旋涂,加热干燥后转入沉积设备,采用二氧化硅进行沉积包覆,之后将光模块置于去离子水中浸泡,干燥后得到带有复合涂层的光模块;步骤S5、对带有复合涂层的光模块进行氟硅烷化处理,得到光模块涂层。本发明能够使光模块涂层具有极低反射率和极高透射率,并且能够使光模块涂层的稳定性得到提升。
本发明授权一种光模块涂层及其制备工艺在权利要求书中公布了:1.一种光模块涂层的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤: 步骤S1、将清洗后的光模块进行等离子体活化,之后滴加UV树脂进行旋涂,固化,脱模,得到预处理光模块; 步骤S2、向预处理光模块滴加聚苯乙烯纳米球分散液,旋涂,进行氧等离子体处理,再对光模块进行Al沉积形成掩膜,去除聚苯乙烯纳米球,再进行氧等离子体刻蚀,最后去除掩膜,固化,干燥,得到具有亚波长结构涂层的光模块; 步骤S3、将具有亚波长结构涂层的光模块转入沉积设备采用二氧化硅和二氧化钛进行沉积,退火,冷却后得到带有初步涂层的光模块; 步骤S4、采用氯化钾悬浮液对带有初步涂层的光模块进行旋涂,加热干燥后转入沉积设备,采用二氧化硅进行沉积包覆,之后将光模块置于去离子水中浸泡,干燥后得到带有复合涂层的光模块; 步骤S5、将带有复合涂层的光模块置于密闭气相反应器中,采用1H,1H,2H,2H-全氟辛基三乙氧基硅烷对其进行氟硅烷化处理,处理完成后吹干,得到光模块涂层。
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