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龙图腾网获悉北京集成电路装备创新中心有限公司申请的专利匀流组件及立式炉获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120758856B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510759264.3，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权匀流组件及立式炉是由赵雷超设计研发完成，并于2025-06-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本匀流组件及立式炉在说明书摘要公布了：本发明提供一种匀流组件及立式炉，涉及半导体加工技术领域。该匀流组件包括进气结构和排气结构，其中，进气结构具有进气流道和连通于进气流道的多个进气部，多个进气部沿第一方向间隔排布；排气结构具有排气流道和连通于所述排气流道的多个排气部，多个所述排气部沿第一方向间隔排布；多个进气部和多个排气部被配置为：布置于晶舟相对的两侧且相向设置，各进气部分别对应于其中一个排气部以在两者之间形成气流区，多个气流区能够分别流经晶舟中其中两个相邻晶圆之间的间隔空间，且气流区的流动区域完全覆盖间隔空间所在区域。该匀流结构能够在晶圆表面形成完整且厚度均匀的薄膜，从而提高晶圆表面成膜的完整均匀性，并确保产品的品质及良率。

本发明授权匀流组件及立式炉在权利要求书中公布了：1.一种匀流组件，其特征在于，包括： 进气结构100，具有进气流道13A和连通于所述进气流道13A的多个进气部140，多个所述进气部140沿第一方向间隔排布，所述进气部140包括多个进气口141，且同一所述进气部140的多个所述进气口141的延伸方向平行设置；以及， 排气结构200，具有排气流道23A和连通于所述排气流道23A的多个排气部240，多个所述排气部240沿第一方向间隔排布； 所述进气结构100和或所述排气结构200作为目标输气结构，所述目标输气结构的所述进气流道13A或所述排气流道23A作为目标输气流道，所述目标输气结构的所述进气部140或所述排气部240作为目标输气部；所述目标输气结构中，所述目标输气流道包括沿第一方向延伸的主流道311和多个沿第二方向延伸的支流道321，多个所述支流道321均连通于所述主流道311，且沿所述主流道311的延伸方向间隔排布；多个所述目标输气部分别连通于其中一个所述支流道321，且所述目标输气部沿相应所述支流道321的延伸方向划分为多个输气区，多个所述输气区的输气面积沿远离所述主流道311的方向逐渐增大； 其中，所述主流道311的延伸方向与晶舟30的轴向一致，所述支流道321的延伸方向平行于晶圆40的径向截面，且所述支流道321为共轴于所述晶舟30的弧形流道；多个所述进气部140和多个所述排气部240被配置为：布置于晶舟30相对的两侧且相向设置，各所述进气部140分别对应于其中一个所述排气部240以在两者之间形成气流区50A，多个所述气流区50A能够分别流经晶舟30中其中两个相邻晶圆40之间的间隔空间40A，且所述气流区50A的流动区域完全覆盖所述间隔空间40A所在区域。

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