河南微米光学科技有限公司王玉洁获国家专利权
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龙图腾网获悉河南微米光学科技有限公司申请的专利用于超薄光学元件的高精度单面抛光装置、方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120645081B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511069557.5，技术领域涉及：B24B13/00；该发明授权用于超薄光学元件的高精度单面抛光装置、方法及系统是由王玉洁;朱逢旭;范静文;牛莉娜设计研发完成，并于2025-07-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于超薄光学元件的高精度单面抛光装置、方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了用于超薄光学元件的高精度单面抛光装置、方法及系统，属于光学元件抛光技术领域，其技术方案要点是包括，根据薄膜传感器采集到的电压数据，得到超薄光学元件的形变量分布数据；根据形变量分布数据和预设的降阶模型，得到预测形变量分布数据，降阶模型根据训练得到；根据预测形变量分布数据，调整控制参数，控制参数包括吸附区负压，本发明通过包括吸附区与硅胶变形层的真空吸附夹盘固定光学元件，并通过设置在硅胶变形层内的正、负传感器准确监测光学元件的形变量，在避免传统上盘方法容易导致光学元件变形和破裂问题的同时避免温漂效应导致的监测误差，最终基于形变量调整控制参数，保证抛光精度。
本发明授权用于超薄光学元件的高精度单面抛光装置、方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种用于超薄光学元件的高精度单面抛光装置，其特征在于，所述装置包括真空吸附夹盘，所述真空吸附夹盘包括： 吸附区，所述吸附区包括主吸附区和边缘缓冲环，所述主吸附区位于夹盘中央，所述边缘缓冲环位于所述主吸附区的外围，所述吸附区上分布有微孔阵列； 硅胶变形层，所述硅胶变形层位于所述吸附区表面，所述硅胶变形层内包括薄膜传感器，所述薄膜传感器包括成对设置的正传感器和负传感器，所述正传感器和负传感器交替排列，所述正传感器和负传感器对同一方向的形变响应相反，所述正传感器和负传感器之间的电压差，用于抵消温漂效应导致的额外电压，以得到形变量分布数据。
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