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龙图腾网获悉西安交通大学申请的专利一种基于大面积单层纳米多孔石墨烯Nafion复合的质子交换膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119400919B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411511401.3，技术领域涉及：H01M8/1081；该发明授权一种基于大面积单层纳米多孔石墨烯Nafion复合的质子交换膜及其制备方法是由史乐;应之璇;王银栋;冯科婕;刘美娟设计研发完成，并于2024-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于大面积单层纳米多孔石墨烯Nafion复合的质子交换膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于大面积单层纳米多孔石墨烯Nafion复合的质子交换膜及其制备方法，首先通过等离子体刻蚀得到石墨烯铜箔样品；在石墨烯铜箔样品的石墨烯表面旋涂Nafion乳胶；将旋涂后的石墨烯铜箔样品进行干燥固化，将Nafion薄膜热压在石墨烯样品旋涂面，得到Nafion石墨烯铜箔样品；将Nafion石墨烯铜箔样品在刻蚀液中刻蚀处理，然后冲洗样品，完成剩余铜箔刻蚀，清洗并晾干；继续旋涂Nafion乳胶；将旋涂后的Nafion石墨烯样品进行干燥固化，然后与Nafion薄膜进行热压复合；将Nafion石墨烯Nafion样品在酸溶液中浸泡后晾干，得到基于大面积单层纳米多孔石墨烯Nafion复合的质子交换膜。本发明有效解决质子交换膜由于选择性不足及本征石墨烯质子传输效率低带来的性能提升瓶颈。

本发明授权一种基于大面积单层纳米多孔石墨烯Nafion复合的质子交换膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种基于大面积单层纳米多孔石墨烯Nafion复合的质子交换膜制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、对石墨烯样品进行等离子体刻蚀，得到多孔石墨烯铜箔样品，通过化学气相沉积生长获得的铜基底上的多孔石墨烯，用玻璃板将铜箔压平，多孔石墨烯面朝上，使样品附着在玻璃板上；将玻璃板放入等离子体清洗剂的腔体中，抽真空5~30min，调节腔体内氩气气压至1.5~1.7mbar后平衡5~30min，等离子体发生功率设置为15~25W，氩等离子体刻蚀时间为5~10s；腔体破真空后，在多孔石墨烯样品上放上法拉第铜网，抽真空5~30min后，调节腔体内氧气气压至0.25~0.4mbar后平衡5~30min，等离子体发生功率设置为5~10W； S2、在步骤S1制备的多孔石墨烯铜箔样品的石墨烯表面旋涂一层Nafion乳胶，并重复多次； S3、将步骤S2旋涂后的多孔石墨烯铜箔样品在热台上干燥固化，将Nafion薄膜热压在石墨烯样品旋涂的一面上，得到Nafion多孔石墨烯铜箔样品； S4、将步骤S3热压后的Nafion多孔石墨烯铜箔样品在刻蚀液中刻蚀处理，去除铜箔背面附着的材料，然后冲洗铜箔的背面，将样品重新置于干净的刻蚀液中刻蚀剩余的铜箔，刻蚀完成后清洗并晾干，得到Nafion石墨烯样品； S5、在步骤S4晾干后的Nafion多孔石墨烯样品的石墨烯面继续旋涂一层Nafion乳胶； S6、将步骤S5旋涂后的Nafion石墨烯样品在热台上干燥固化，然后与另一张Nafion薄膜进行热压复合，得到Nafion多孔石墨烯Nafion样品； S7、将步骤S6制备的Nafion多孔石墨烯Nafion样品在酸溶液中浸泡后晾干，得到基于大面积单层纳米多孔石墨烯Nafion复合的质子交换膜。

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