应用材料以色列公司Y·H·奥菲尔获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料以色列公司申请的专利对半导体样本的缺陷检查获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117670789B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311150324.9，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权对半导体样本的缺陷检查是由Y·H·奥菲尔;Y·莱德尔曼;R·巴达内斯;B·谢尔曼;B·科恩设计研发完成，并于2023-09-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本对半导体样本的缺陷检查在说明书摘要公布了：提供了一种用于对半导体样本进行缺陷检查的系统和方法。所述方法包括获得半导体样本的运行时图像、使用机器学习ML模型基于运行时图像生成参考图像、以及使用生成的参考图像对运行时图像执行缺陷检查。ML模型先前在设置期间使用包括一对或多对训练图像的训练集进行训练，每对训练图像包括缺陷图像和对应的无缺陷图像。训练包括针对每对训练图像，由ML模型处理缺陷图像以获得预测图像，以及优化ML模型以使预测图像和无缺陷图像之间的差异最小化。
本发明授权对半导体样本的缺陷检查在权利要求书中公布了：1.一种用于对半导体样本进行缺陷检查的计算机化系统，所述系统包括处理和存储器电路系统PMC，所述处理和存储器电路系统PMC被配置为： 获取所述半导体样本的运行时图像； 使用机器学习ML模型基于所述运行时图像生成参考图像，其中所述ML模型先前在设置期间使用训练集进行训练，所述训练集包括一对或多对训练图像，每对训练图像包括缺陷图像和对应的无缺陷图像，所述训练包括针对每对训练图像： 通过所述ML模型对所述缺陷图像进行处理以获得预测图像；以及 优化所述ML模型以使所述预测图像和所述无缺陷图像之间的差异最小化， 其中在所述训练之前通过使用图像修复对每对训练图像中的所述缺陷图像和所述无缺陷图像执行图像增强来对所述缺陷图像和所述无缺陷图像进行预处理，从而产生与所述无缺陷图像的各个部分相对应的多个缺陷子图像，并且其中每个缺陷子图像具有移除的子区域子集，并且所述ML模型作为图像修复网络来重建所述缺陷子图像中的所述移除的子区域子集；以及 使用所生成的参考图像对所述运行时图像执行缺陷检查。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人应用材料以色列公司，其通讯地址为：以色列瑞哈佛特市；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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