株式会社斯库林集团佐佐木光敏获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117457527B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310895728.4，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理装置是由佐佐木光敏设计研发完成，并于2023-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供基板处理装置，即使在将盖部浸渍于处理液的状态下供给气泡也能够抑制处理的均匀性降低。将基板W浸渍在贮存于处理槽10的处理液中而进行表面处理。处理槽10的上部开口被第一盖体81和第二盖体82覆盖。在第一盖体81和第二盖体82形成有倾斜面。第一盖体81和第二盖体82的至少一部分浸渍在处理液中。在基板W的处理中，从多个气泡供给管51向处理液中喷出气泡。到达处理液与第一盖体81和第二盖体82的界面的气泡被形成于第一盖体81和第二盖体82的倾斜面向斜上方引导，顺利地排出到处理槽10的外部。能够消除气泡的滞留而防止气泡与基板W的接触，抑制处理的均匀性降低。
本发明授权基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，是利用处理液对基板进行表面处理的基板处理装置，其特征在于，具备： 处理槽，其贮存处理液； 处理液供给部，其向所述处理槽内供给处理液； 基板保持部，其保持基板，且将所述基板浸渍在贮存于所述处理槽的处理液中； 管状的气泡供给管，其配置于所述处理槽的内部，且从保持于所述基板保持部的所述基板的下方向贮存于所述处理槽的处理液供给气泡；以及 盖部，其覆盖所述处理槽的上部开口， 所述盖部的至少一部分浸渍在贮存于所述处理槽的处理液中， 在所述盖部形成有： 第一倾斜面，其越靠近所述盖部的端缘部越朝向上侧；以及 第二倾斜面，其越靠近所述盖部的中央部越朝向上侧， 所述盖部具有能够开闭地设置的第一盖体和第二盖体， 在所述第一盖体和所述第二盖体分别形成有具有四个倾斜面的四棱锥形状的凸部， 由所述第一盖体的四个倾斜面中的一个以及所述第二盖体的四个倾斜面中的一个构成所述第一倾斜面，由所述第一盖体的四个倾斜面中的另一个以及所述第二盖体的四个倾斜面中的另一个构成所述第二倾斜面。
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