国立大学法人神户大学;AGC株式会社;三菱瓦斯化学株式会社津田明彦获国家专利权
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龙图腾网获悉国立大学法人神户大学;AGC株式会社;三菱瓦斯化学株式会社申请的专利羰基卤化物的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116964028B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280014107.4，技术领域涉及：C07C68/02；该发明授权羰基卤化物的制造方法是由津田明彦;冈添隆;原田英文设计研发完成，并于2022-01-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本羰基卤化物的制造方法在说明书摘要公布了：本发明的目的在于，提供相对于使用的卤代甲烷有效地制造羰基卤化物的方法。本发明所述的羰基卤化物的制造方法的特征在于，包括如下工序：制备包含卤代甲烷和氧气的混合气体的工序，所述卤代甲烷具有选自由氯、溴及碘组成的组中的1种以上的卤素基团；以及使前述混合气体流动，对前述流动混合气体照射高能光的工序。
本发明授权羰基卤化物的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种用于制造光气的方法，其特征在于，包括如下工序： 制备包含卤代甲烷和氧气的混合气体的工序，所述卤代甲烷具有氯基团；以及 使前述混合气体流动，对流动的所述混合气体照射峰波长包含于180nm以上且500nm以下的范围的光的工序。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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