株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社永泽鹤美获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社申请的专利磁头和磁记录装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116665718B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210958794.7,技术领域涉及:G11B5/31;该发明授权磁头和磁记录装置是由永泽鹤美;中川裕治;成田直幸;高岸雅幸;前田知幸;长村燎设计研发完成,并于2022-08-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本磁头和磁记录装置在说明书摘要公布了:本发明提供能提高记录密度的磁头和磁记录装置。根据实施方式,磁头包括第1磁极、第2磁极、层叠体和第1~第3端子。层叠体设置于第1磁极与第2磁极之间。层叠体包括第1~第4磁性层和第1~第5非磁性层。第1端子与第1磁极电连接。第2端子与第2磁极电连接。第3端子与第3非磁性层电连接。
本发明授权磁头和磁记录装置在权利要求书中公布了:1.一种磁头,具有: 第1磁极; 第2磁极; 设置于所述第1磁极与所述第2磁极之间的层叠体,所述层叠体包括第1磁性层、设置于所述第1磁性层与所述第2磁极之间的第2磁性层、设置于所述第2磁性层与所述第2磁极之间的第3磁性层、设置于所述第3磁性层与所述第2磁极之间的第4磁性层、设置于所述第1磁极与所述第1磁性层之间的第1非磁性层、设置于所述第1磁性层与所述第2磁性层之间并与所述第1磁性层和所述第2磁性层相接的第2非磁性层、设置于所述第2磁性层与所述第3磁性层之间的第3非磁性层、设置于所述第3磁性层与所述第4磁性层之间并与所述第3磁性层和所述第4磁性层相接的第4非磁性层、以及设置于所述第4磁性层与所述第2磁极之间的第5非磁性层; 与所述第1磁极电连接的第1端子; 与所述第2磁极电连接的第2端子;以及 与所述第3非磁性层电连接的第3端子, 沿着从所述第1磁性层向所述第4磁性层的第1方向的所述第1磁性层的第1厚度比沿着所述第1方向的所述第2磁性层的第2厚度厚且比沿着所述第1方向的所述第3磁性层的第3厚度厚; 沿着所述第1方向的所述第4磁性层的第4厚度比所述第2厚度厚且比所述第3厚度厚。
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