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日产化学株式会社野田尚宏获国家专利权

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龙图腾网获悉日产化学株式会社申请的专利自由基产生膜形成组合物、自由基产生膜、液晶显示元件的制造方法及液晶显示元件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116507643B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180073116.6,技术领域涉及:G02F1/1337;该发明授权自由基产生膜形成组合物、自由基产生膜、液晶显示元件的制造方法及液晶显示元件是由野田尚宏;三宅一世;大田政太郎设计研发完成,并于2021-10-26向国家知识产权局提交的专利申请。

自由基产生膜形成组合物、自由基产生膜、液晶显示元件的制造方法及液晶显示元件在说明书摘要公布了:一种自由基产生膜形成组合物,其特征在于,含有下述成分:成分A:用作横向电场驱动用液晶取向剂的取向成分的聚合物、及成分B:具有下述式1所表示的基团的含硅化合物。*‑R11‑R22‑R331式1中,*表示键合部位,R1表示单键、‑CH22‑、‑O‑、‑COO‑、‑OCO‑、‑NHCO‑、‑CONH‑、‑NH‑、‑CH22O‑、‑NCH33‑、‑CONCH33‑或‑NCH33CO‑。R22表示单键、或者未被取代或被氟原子取代的碳原子数为1~20的亚烷基,该亚烷基的任意的1个以上的‑CH22‑或‑CF22‑可各自独立地被选自‑CH=CH‑、2价碳环、及2价杂环中的基团替代,进而,该亚烷基的任意的1个以上的‑CH22‑或‑CF22‑以下面列举的任一基团、即‑O‑、‑COO‑、‑OCO‑、‑NHCO‑、‑CONH‑或‑NH‑彼此不相邻为条件,可被这些中的至少任一个基团替代。R33表示诱发自由基聚合的有机基团。

本发明授权自由基产生膜形成组合物、自由基产生膜、液晶显示元件的制造方法及液晶显示元件在权利要求书中公布了:1.一种自由基产生膜形成组合物,其特征在于,含有下述成分: 成分A:用作横向电场驱动用液晶取向剂的取向成分的聚合物、及 成分B:具有下述式1所表示的基团的含硅化合物, ; 式1中,表示键合部位;R1表示单键、-CH2-、-O-、-COO-、-OCO-、-NHCO-、-CONH-、-NH-、-CH2O-、-NCH3-、-CONCH3-或-NCH3CO-; R2表示单键、或者未被取代或被氟原子取代的碳原子数为1~20的亚烷基,该亚烷基的任意的1个以上的-CH2-或-CF2-各自独立地被或不被选自-CH=CH-、2价碳环、及2价杂环中的基团替代,进而,该亚烷基的任意的1个以上的-CH2-或-CF2-以下面列举的任一基团、即-O-、-COO-、-OCO-、-NHCO-、-CONH-或-NH-彼此不相邻为条件,被或不被这些中的至少任一个基团替代; R3表示下述式[Y]所表示的诱发自由基聚合的有机基团, ; 式[Y]中,表示键合部位;Ar表示选自由具有或不具有有机基团和或卤素原子作为取代基的亚苯基、亚萘基和亚联苯基组成的组中的芳香族烃基,R9和R10各自独立地表示碳原子数为1~10的烷基或碳原子数为1~10的烷氧基,当R9和R10为烷基时,在末端相互键合而形成环结构、或未形成环结构; Q表示下述任一结构, ; 上式中,R11表示-CH2-、-NR-、-O-或-S-;R各自独立地表示氢原子或碳原子数为1~4的烷基;表示键合部位; S3表示单键、-O-、-NR-、或-S-,其中,R表示氢原子或碳原子数为1~14的烷基, 所述具有式1所表示的基团的含硅化合物为下述式2所表示的含硅化合物、包含下述式2所表示的含硅化合物的水解性有机硅化合物的水解缩合物、及使用下述式2所表示的含硅化合物进行了表面修饰的微粒中的至少任一者, ; 式2中,Z为所述式1所表示的基团,R各自独立地表示氢原子或碳原子数为1~5的烷基,R4表示碳原子数为1~10的亚烷基,R'表示碳原子数为1~5的烷基,x表示2或3。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人日产化学株式会社,其通讯地址为:日本国东京都;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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