上海仪电显示材料有限公司;昆山仪电显示材料有限公司陈黛黛获国家专利权
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龙图腾网获悉上海仪电显示材料有限公司;昆山仪电显示材料有限公司申请的专利滤光片及其形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116413943B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111647536.9，技术领域涉及：G02F1/1335；该发明授权滤光片及其形成方法是由陈黛黛;范刚洪;李欣;唐文静;张莉设计研发完成，并于2021-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本滤光片及其形成方法在说明书摘要公布了：一种滤光片及其形成方法，其中滤光片包括：基板，所述基板包括过渡区；黑色矩阵层，所述黑色矩阵层覆盖所述过渡区的所述基板；色阻层，位于所述过渡区的所述黑色矩阵层上，所述色阻层包括多个不同颜色的色阻，所述色阻沿第一方向排列且在第二方向呈连续条状，所述第一方向与所述第二方向垂直，相邻所述色阻之间具有交叠区。本发明实施例提供的滤光片，可以减少显示区和过渡区之间因间隔柱支撑力差异造成的显示不均，有利于提升显示效果。
本发明授权滤光片及其形成方法在权利要求书中公布了：1.一种滤光片，其特征在于，包括： 基板，所述基板包括过渡区、显示区和盲孔区，所述过渡区位于所述显示区和所述盲孔区之间，且所述过渡区包围所述盲孔区； 黑色矩阵层，所述黑色矩阵层覆盖所述过渡区的所述基板； 色阻层，位于所述过渡区的所述黑色矩阵层上，所述色阻层包括多个不同颜色的色阻，所述色阻沿第一方向排列且在第二方向呈连续条状，所述第一方向与所述第二方向垂直，相邻所述色阻之间具有交叠区，所述过渡区的所述色阻层的总面积与所述过渡区的所述黑色矩阵层的总面积的比例大于等于95%，所述过渡区的所述色阻的端部与所述盲孔区边缘的最大距离为0.5微米~1微米； 第一主间隔柱，所述第一主间隔柱位于所述过渡区上，所述第一主间隔柱位于在所述第一方向上宽度最宽的色阻与相邻的其他色阻之间的交叠区上； 第二主间隔柱，所述第二主间隔柱位于所述显示区上，所述第一主间隔柱的数量与所述第二主间隔柱的数量的比值大于等于2。
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