精工爱普生株式会社高栖和弘获国家专利权
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龙图腾网获悉精工爱普生株式会社申请的专利指示体的检测方法和投影系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115145409B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210315932.X,技术领域涉及:G06F3/03;该发明授权指示体的检测方法和投影系统是由高栖和弘;唐泽行浩设计研发完成,并于2022-03-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本指示体的检测方法和投影系统在说明书摘要公布了:指示体的检测方法和投影系统,即使在配置有指示体以外的物体的区域中,也可检测指示体的位置。投影仪100的第1控制部150执行第1和第2模式,第1模式包含:检测第1指示体50发出的第1光190,由此检测投射面10上的第1指示体50的位置,发光装置射出第2光180,检测第2光180被第2指示体70反射后的反射光,由此检测投射面10上的第2指示体70的位置,第2模式包含:在判定为第1指示体50与投射面10接触时,使第2光180的光量减少,在使第2光180的光量减少的状态下,检测第1光190,由此检测投射面10上的第1指示体的位置。
本发明授权指示体的检测方法和投影系统在权利要求书中公布了:1.一种指示体的检测方法,其包含第1模式和第2模式,其中, 所述第1模式包含: 检测第1指示体发出的第1光,由此检测操作面上的所述第1指示体的位置, 发光装置射出第2光, 检测所述第2光被第2指示体反射后的反射光,由此检测所述操作面上的所述第2指示体的位置, 所述第2模式包含: 在判定为所述第1指示体与所述操作面接触的情况下,使所述第2光的光量减少, 在使所述第2光的光量减少后的状态下,检测所述第1光,由此检测所述操作面上的所述第1指示体的位置, 该指示体的检测方法包含:在所述第2模式中所述第1指示体未对所述操作面进行描绘的状态持续了规定时间时,从所述第2模式变更为所述第1模式。
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