东京毅力科创株式会社赵建平获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利宽带等离子体加工系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114730689B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080078931.7，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权宽带等离子体加工系统和方法是由赵建平;彼得·文特泽克设计研发完成，并于2020-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本宽带等离子体加工系统和方法在说明书摘要公布了：一种用于操作等离子体加工系统的方法，包括确定用于为等离子体加工室内的第一等离子体供电的第一频率。该方法包括在宽带功率放大器处生成具有该第一频率的第一放大RF信号。该方法包括供应该第一放大RF信号，以使用包括该第一等离子体的第一等离子体工艺来加工布置在该等离子体加工室中的衬底。该方法包括确定用于为该等离子体加工室内的第二等离子体供电的第二频率。该方法包括在该宽带功率放大器处生成具有该第二频率的第二放大RF信号。该方法包括供应该第二放大RF信号，以使用包括该第二等离子体的第二等离子体工艺来加工布置在该等离子体加工室中的衬底。
本发明授权宽带等离子体加工系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种用于操作等离子体加工系统的方法，该方法包括： 确定用于为等离子体加工室内的第一等离子体供电的第一频率； 在宽带功率放大器处生成具有该第一频率的第一放大RF信号； 供应该第一放大RF信号，以使用包括该第一等离子体的第一等离子体工艺来加工布置在该等离子体加工室中的衬底； 确定用于为该等离子体加工室内的第二等离子体供电的第二频率； 在该宽带功率放大器处生成具有该第二频率的第二放大RF信号；以及 供应该第二放大RF信号，以使用包括该第二等离子体的第二等离子体工艺来加工布置在该等离子体加工室中的衬底， 其中，确定该第一频率包括通过测量传递到该第一等离子体的功率来生成第一反馈信号，以及基于该第一反馈信号确定该第一频率；并且其中，确定该第二频率包括通过测量传递到该第二等离子体的功率来生成第二反馈信号，以及基于该第二反馈信号确定该第二频率，并且 其中，该第一反馈信号和该第二反馈信号表示该宽带功率放大器与该宽带功率放大器的输出端口处的负载之间的阻抗失配。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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