杜尔系统有限公司詹姆斯·凯斯获国家专利权
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龙图腾网获悉杜尔系统有限公司申请的专利颗粒去除装置中的气体关闭装置和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114072221B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180002171.6，技术领域涉及：B01D53/40；该发明授权颗粒去除装置中的气体关闭装置和方法是由詹姆斯·凯斯;杰弗瑞·鲁道夫设计研发完成，并于2021-02-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本颗粒去除装置中的气体关闭装置和方法在说明书摘要公布了：一种用于清洁污染控制装置诸如颗粒去除装置等，包括湿静电除尘器的方法和设备。该设备可包括：壳体、至少一个工艺气体入口、工艺气体出口、该壳体中的一个或更多个电离电极，以及外壳中的一个或更多个收集电极或板，该外壳具有腔室，该至少一个工艺气体入口与该腔室流体连通，该工艺气体出口与该至少一个工艺气体入口间隔开并且与该腔室流体连通。该壳体可与密封液体源诸如水源等流体连通。提供密封液体并引入腔室，密封液体的量足以浸没至少一个工艺气体入口并阻止受污染的气体流进入腔室中。因此，受污染的气体被引至颗粒去除装置的不经历冲洗的其他模块区域，在不经历冲洗的其他区域或模块中颗粒可以继续被去除，并且不再接纳工艺气体的模块可以被清洁以及随后密封液体被排出。
本发明授权颗粒去除装置中的气体关闭装置和方法在权利要求书中公布了：1.一种停止气流进入颗粒去除装置的方法，包括： 提供颗粒去除装置，所述颗粒去除装置包括至少一个电离电极、至少一个颗粒收集电极、高压源、密封液体源和第一腔室，所述高压源用于对所述至少一个电离电极充电，所述第一腔室具有用于将工艺气体引入所述颗粒去除装置的至少一个入口，所述第一腔室包括一个或更多个波减少挡板，所述第一腔室与所述至少一个电离电极和所述至少一个颗粒收集电极流体连通； 将工艺气体经由所述至少一个入口引入所述第一腔室中； 将所述密封液体引入所述第一腔室中，所述密封液体的量足以浸没所述至少一个入口并阻止所述工艺气体流进入所述第一腔室中，并且当所述密封液体达到需要最后2至4英寸才能浸没入口的液位时，密封液体的液位被快速升高，以在60秒或更短的时间内切断工艺气体流；以及 冲洗所述第一腔室，同时所述密封液体阻止所述工艺气体流过所述第一腔室。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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