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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利基板处理装置和基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113921420B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110767438.2，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理装置和基板处理方法是由崔峻荣;李钟斗设计研发完成，并于2021-07-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置和基板处理方法在说明书摘要公布了：本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。本发明构思提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：工艺腔室，在工艺腔室的内部提供处理空间，在处理空间中处理基板；将流体供应到工艺腔室中的流体供应单元；以及包括排放管线的排放单元，工艺腔室中的流体通过排放管线被排放。流体供应单元包括：供应罐，流体被储存在该供应罐中；连接供应罐和工艺腔室的供应管线；在供应管线的第一点处从供应管线分支的分支管线；以及控制流体供应单元的控制器，并且控制器控制流体供应单元，使得在流体被供应到工艺腔室中之前不久，流体通过分支管线从所述供应管线被排出。

本发明授权基板处理装置和基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，所述基板处理装置包括： 工艺腔室，所述工艺腔室配置为在所述工艺腔室的内部提供处理空间，在所述处理空间中处理基板； 流体供应单元，所述流体供应单元配置为将流体供应到所述工艺腔室中；以及 排放单元，所述排放单元包括排放管线，所述工艺腔室中的流体通过所述排放管线被排放； 其中，所述流体供应单元包括： 供应罐，所述流体被储存在所述供应罐中； 供应管线，所述供应管线连接所述供应罐和所述工艺腔室； 分支管线，所述分支管线在所述供应管线的第一点处从所述供应管线分支； 传感器，所述传感器配置为测量所述第一点周围的流体的温度；和 控制器，所述控制器配置为控制所述流体供应单元，并且 其中，所述控制器控制所述流体供应单元，使得在所述流体被供应到所述工艺腔室中之前不久，所述流体通过所述分支管线从所述供应管线被排出； 其中，所述控制器控制所述流体供应单元，使得在所述流体被供应到所述工艺腔室中之前不久，所述流体通过所述分支管线被排出直到使在所述供应管线中的所述流体进入稳定状态；并且 其中，所述稳定状态为所述第一点周围的所述流体的温度达到工艺温度的状态，在工艺腔室中以所述工艺温度处理所述基板。

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