重庆芯联微电子有限公司李小龙获国家专利权
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龙图腾网获悉重庆芯联微电子有限公司申请的专利一种预防光刻机磁体吸引的保护罩获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223770529U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202423306363.6,技术领域涉及:G03F7/20;该实用新型一种预防光刻机磁体吸引的保护罩是由李小龙;田龙设计研发完成,并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种预防光刻机磁体吸引的保护罩在说明书摘要公布了:本实用新型提供一种预防光刻机磁体吸引的保护罩,包括罩体和多个固定部;所述罩体为可伸缩结构,所述罩体中形成有空腔,所述空腔底部设置有开口,所述空腔通过开口覆盖在所述光刻机磁体上;所述固定部设置于所述开口旁的所述罩体端面上。通过设置保护罩,可以将磁体和外界隔离出一个安全距离,减少磁力对工具或零部件的吸引力,防止对设备、人员的可能损伤;且保护罩的长度可调,能够对处于不同位置时的滑动器磁体实现遮蔽,适应性好。
本实用新型一种预防光刻机磁体吸引的保护罩在权利要求书中公布了:1.一种预防光刻机磁体吸引的保护罩,其特征在于,包括罩体和多个固定部; 所述罩体为可伸缩结构,所述罩体中形成有空腔,所述空腔底部设置有开口,所述空腔通过开口覆盖在所述光刻机磁体上; 所述固定部设置于所述开口旁的所述罩体端面上。
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