赛默飞世尔(上海)仪器有限公司;赛默飞世尔(苏州)仪器有限公司褚波获国家专利权
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龙图腾网获悉赛默飞世尔(上海)仪器有限公司;赛默飞世尔(苏州)仪器有限公司申请的专利用于光学设备的光学对准装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223770034U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423296032.9，技术领域涉及：G01N21/01；该实用新型用于光学设备的光学对准装置是由褚波;胡斌;秦来贵;洪伟设计研发完成，并于2024-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光学设备的光学对准装置在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种用于光学设备的光学对准装置，光学设备包括光发射件和用于支承光发射件的支承件，其中，该光学对准装置包括：基座，支承件能够固定到基座；对准参照元件，对准参照元件包括参照标记物，对准参照元件固定到基座，以使得在支承件固定到基座时参照标记物与支承件的相对位置能够对应于光学设备的待测的样品与支承件的相对位置；以及调节组件，调节组件连接到基座，调节组件用于调节光发射件相对于支承件的相对位置，以使得从光发射件射到对准参照元件的光线的光强度最大点能够与参照标记物之间的间距小于预设值。
本实用新型用于光学设备的光学对准装置在权利要求书中公布了：1.一种用于光学设备的光学对准装置，所述光学设备200包括光发射件260和用于支承所述光发射件260的支承件250，其特征在于，所述光学对准装置100包括： 基座110，所述支承件250能够固定到所述基座110； 对准参照元件120，所述对准参照元件120包括参照标记物121，所述对准参照元件120固定到所述基座110，以使得在所述支承件250固定到所述基座110时所述参照标记物121与所述支承件250的相对位置能够对应于所述光学设备200的待测的样品300的测试位置与所述支承件250的相对位置；以及 调节组件130，所述调节组件130连接到所述基座110，所述调节组件130用于调节所述光发射件260相对于所述支承件250的相对位置，以使得从所述光发射件260射到所述对准参照元件120的光线的光强度最大点能够与所述参照标记物121之间的间距小于预设值。
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