宁波大学乔木获国家专利权
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龙图腾网获悉宁波大学申请的专利一种基于正交掩膜的单曝光高光谱成像装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223769633U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423288614.2，技术领域涉及：G01J3/28；该实用新型一种基于正交掩膜的单曝光高光谱成像装置是由乔木设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于正交掩膜的单曝光高光谱成像装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种基于正交掩膜的单曝光高光谱成像装置，所使用的正交掩膜可显著提升成像系统最终的图案质量，包括峰值信噪比，结构相似性以及光谱准确度。而相较于近些年新公开的使用彩色掩膜的单曝光光谱成像技术，本实用新型所使用的正交掩膜为进行二值空间调制图案，所获调制图案为二值图案，制作工艺简单成熟，成本低廉，且能够实现同等甚至更高效率的光谱调制，进而不受成本和操作复杂性的限制。
本实用新型一种基于正交掩膜的单曝光高光谱成像装置在权利要求书中公布了：1.一种基于正交掩膜的单曝光高光谱成像装置，其特征在于，所述单曝光高光谱成像装置包括沿物体形成的高光谱成像信息传播方向依次设置的： 物方色散棱镜1，用于对物体形成的高光谱成像信息进行色散，获得物方色散图案； 正交掩膜2，用于对所述物方色散图案进行二值空间调制，获得调制图案； 像方色散棱镜3，其棱镜朝向与所述物方色散棱镜1的相反，用于对所述调制图案进行色散，获得像方色散图案； 灰度图案传感器4，用于对所述像方色散图案进行曝光测量，获得测量结果。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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