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龙图腾网获悉苏州大学申请的专利一种基于数控路径规划与过程优化的光学元件成形方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120962514B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511517906.5，技术领域涉及：B24B27/06；该发明授权一种基于数控路径规划与过程优化的光学元件成形方法是由陈曦;刘北一;蓝毓敏;王伟;郭培基;石拓设计研发完成，并于2025-10-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于数控路径规划与过程优化的光学元件成形方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于数控路径规划与过程优化的光学元件成形方法，涉及高端装备制造与工业智能控制技术领域，具体方法包括：第一步，对光学元件易崩边区域进行预处理，从右向左加工，在该区域形成至少三个高度依次逐步加高的阶梯状缓冲区域，第二步，刀具从左侧向右以栅线形式加工整个光学面。本发明通过预设的阶梯缓冲，改变了刀具与边缘材料的相互作用方式，实现了切削力的平稳过渡和应力分散，有效抑制了边缘崩边。由于崩边风险得到控制，第二步主体加工无需分层，一刀完成较大吃刀量的材料去除，从而显著提高了加工效率。

本发明授权一种基于数控路径规划与过程优化的光学元件成形方法在权利要求书中公布了：1.一种基于数控路径规划与过程优化的光学元件成形方法，所述光学元件的面形方程在XYZ正交坐标系下表述为Z=fx,y，光学元件在X方向的尺寸表述为LX，光学元件在Y方向的尺寸表述为LY；刀具加工路径在Z轴法平面方向投影为栅线形，X轴正方向一侧为右侧，X轴负方向一侧为左侧，其特征在于：将光学元件固定在数控机床的工作台上之后，所述方法包括以下步骤： 控制所述刀具从右侧向左以栅线形式加工所述光学元件，加工区域为从右侧边缘X=LX2向左延伸到X=LX2-DX的部分区域；其中，DX为预处理宽度，在该DX宽度的区域内，加工的面形方程至少分为三个子区域，从右侧X=LX2沿X轴负方向依次定义为： 第一子区域：X的范围为LX2到LX2-dx1，其面形方程设定为Z=fx,y+dz1； 第二子区域：X的范围为LX2-dx1到LX2-dx1-dx2，其面形方程设定为Z=fx,y+dz2； 第三子区域：X的范围为LX2-dx1-dx2到LX2-dx1-dx2-dx3，其面形方程设定为Z=fx,y+dz3； 其中，dz1为第一子区域的高度补偿值，dx1为第一子区域的宽度；dz2为第二子区域的高度补偿值，dx2为第二子区域的宽度；dz3为第三子区域的高度补偿值，dx3为第三子区域的宽度；各高度补偿值满足0dz1dz2dz3，且各子区域宽度之和满足dx1+dx2+dx3=DX； 控制所述刀具从左侧向右以栅线形式加工所述光学元件的整个光学面Z=fx,y。

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