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龙图腾网获悉内蒙古科技大学申请的专利一种光致变色薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120945585B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511486918.6，技术领域涉及：D04H1/728；该发明授权一种光致变色薄膜及其制备方法是由卢春晓;银相宇;赵烨;李雍;张利文;郝喜红设计研发完成，并于2025-10-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光致变色薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及先进光功能材料技术领域，具体的，涉及一种光致变色薄膜及其制备方法。组分包括：陶瓷粉体和柔性基质，所述陶瓷粉体的化学式为：BaMgSiO4EuxFey，其中0x≤0.01,0y≤0.01；所述柔性基质的制备原料包括溶剂和聚合物；所述陶瓷粉体和柔性基质的重量比为1：3‑10。本发明利用静电纺丝技术制备FeEu掺杂BaMgSiO4光致变色薄膜，通过精确控制掺杂浓度和纺丝参数，可制备出均匀、连续且具有特定微观结构的薄膜，克服了传统方法的缺陷，同时薄膜具有较大的比表面积和丰富的孔隙结构，有利于光致变色反应的快速进行，从而提高变色速度和灵敏度。

本发明授权一种光致变色薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种光致变色薄膜，其特征在于，组分包括：陶瓷粉体和柔性基质，所述陶瓷粉体的化学式为：BaMgSiO4EuxFey，其中0x≤0.01,0y≤0.01；所述柔性基质的制备原料包括溶剂和聚合物；所述陶瓷粉体和柔性基质的重量比为1：3-8； 所述陶瓷粉体的制备原料包括粉体原料、助熔剂、结构稳定剂、敏化剂、电荷补偿剂，所述助熔剂、结构稳定剂、敏化剂、电荷补偿剂的摩尔比为0.5-2：0.01-1：0.01-0.1：0.1-0.5； 所述柔性基质的制备原料包括：40~70份溶剂、10~20份聚合物、8~15份分散剂、1-10份助剂； 所述溶剂包括丙酮、N，N-二甲基甲酰胺和N-甲基吡咯烷酮； 所述聚合物包括热塑性聚氨酯、聚偏二氟乙烯和聚乙烯吡咯烷酮；所述热塑性聚氨酯、聚偏二氟乙烯和聚乙烯吡咯烷酮质量比为3-5：3-4：2-3； 所述光致变色薄膜的制备方法，包括以下步骤：将粉体原料混合，加入助熔剂、结构稳定剂、敏化剂和电荷补偿剂，进行一次球磨，经干燥、研磨后，进行分段预烧，经二次球磨后进行还原烧结和退火处理，得到陶瓷粉体；将聚合物加入溶剂中，再加入分散剂和助剂，得到柔性基质；将所述陶瓷粉体和柔性基质混合均匀，进行静电纺丝，得到光致变色薄膜。

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