荣芯半导体(宁波)有限公司左凯获国家专利权
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龙图腾网获悉荣芯半导体(宁波)有限公司申请的专利一种确定光刻工艺窗口的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120871557B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511406845.5,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权一种确定光刻工艺窗口的方法是由左凯设计研发完成,并于2025-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种确定光刻工艺窗口的方法在说明书摘要公布了:一种确定光刻工艺窗口的方法,该方法包括:获取光刻版图和光刻工艺信息,基于所述光刻版图和所述光刻工艺信息建立光学模型;基于所述光学模型对所述光刻版图中预设的标准监测图形进行仿真,以得到最佳曝光参数;基于所述最佳曝光参数和所述光学模型,对所述光刻版图中的多个候选图形进行仿真,得到所述多个候选图形的仿真工艺窗口;基于所述仿真工艺窗口确定所述多个候选图形中的工艺热点图形;基于所述标准监测图形和所述工艺热点图形进行线上量测,以得到所述标准监测图形和所述工艺热点图形的共同工艺窗口。本发明通过光刻模型仿真减少线上量测的工作量,并提高工艺窗口监测的准确性。
本发明授权一种确定光刻工艺窗口的方法在权利要求书中公布了:1.一种确定光刻工艺窗口的方法,其特征在于,所述方法包括: 获取光刻版图和光刻工艺信息,基于所述光刻版图和所述光刻工艺信息建立光学模型; 基于所述光学模型对所述光刻版图中预设的标准监测图形进行仿真,以得到最佳曝光参数; 基于所述最佳曝光参数和所述光学模型,对所述光刻版图中的多个候选图形进行仿真,得到所述多个候选图形的仿真工艺窗口; 基于所述仿真工艺窗口,在所述多个候选图形中筛选出工艺热点图形; 基于所述标准监测图形和所述工艺热点图形进行线上量测,以得到所述标准监测图形和所述工艺热点图形的共同工艺窗口。
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