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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利一种基于椭偏仪的晶圆表面性质测量方法及相关设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120870000B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511390401.7，技术领域涉及：G01N21/21；该发明授权一种基于椭偏仪的晶圆表面性质测量方法及相关设备是由张南;胡承;罗骞设计研发完成，并于2025-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于椭偏仪的晶圆表面性质测量方法及相关设备在说明书摘要公布了：本发明提供了一种基于椭偏仪的晶圆表面性质测量方法及相关设备，涉及椭偏仪测量技术领域。该方法包括步骤：从待测量晶圆表面选择任意一个测量点作为参考点；针对除参考点外的其他测量点，根据参考点，确定各测量点的聚焦高度调整量，并基于聚焦高度调整量计算各测量点对应的最佳聚焦高度；根据各测量点对应的最佳聚焦高度，测量得到各测量点的椭偏光色散曲线，并基于椭偏光色散曲线分析得到各测量点的薄膜性质。本发明的方法旨在解决现有测量方法无法同时兼顾测量效率和精度的问题，能够降低聚焦过程总时间，提高聚焦效率，兼顾聚焦精度。

本发明授权一种基于椭偏仪的晶圆表面性质测量方法及相关设备在权利要求书中公布了：1.一种基于椭偏仪的晶圆表面性质测量方法，其特征在于，包括以下步骤： 从待测量晶圆表面选择任意一个测量点作为参考点； 针对除所述参考点外的其他测量点，根据所述参考点，确定各测量点的聚焦高度调整量，并基于所述聚焦高度调整量计算各测量点对应的最佳聚焦高度； 根据各测量点对应的最佳聚焦高度，测量得到各测量点的椭偏光色散曲线，并基于椭偏光色散曲线分析得到各测量点的薄膜性质； 针对除所述参考点外的其他测量点，根据所述参考点，确定各测量点的聚焦高度调整量，并基于所述聚焦高度调整量计算各测量点对应的最佳聚焦高度的步骤包括： A1.基于所述参考点采用标准聚焦方法,获得反射光强和聚焦高度之间的变化关系，且测量得到所述参考点的最佳聚焦高度并作为参考高度； A2.针对除所述参考点外的其他测量点，基于所述参考高度测量得到各测量点对应的反射光强； A3.基于所述变化关系，根据各测量点对应的反射光强，计算各测量点对应的聚焦高度调整量； A4.确定各测量点的聚焦高度调整方向，并基于所述聚焦高度调整方向，根据各测量点对应的聚焦高度调整量，得到各测量点对应的最佳聚焦高度。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人季华实验室，其通讯地址为：528200 广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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