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龙图腾网获悉河南微米光学科技有限公司申请的专利氟化钙晶体缺陷检测系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120539181B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510774254.7，技术领域涉及：G01N21/95；该发明授权氟化钙晶体缺陷检测系统及方法是由甄西合;彭明林;王玉洁;朱逢旭;范静文设计研发完成，并于2025-06-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本氟化钙晶体缺陷检测系统及方法在说明书摘要公布了：本申请提供了氟化钙晶体缺陷检测系统及方法，涉及检测技术领域，方法包括：对晶体进行预处理以确定基准位置和环境参数，然后分别开展光学均匀性检测与应力双折射检测，获得干涉条纹图与偏振态变化数据，并生成光程差数据与应力场数据。通过空间配准和数据关联分析，提取同时存在折射率异常和应力异常的区域作为候选缺陷区域，量化缺陷强度及应力影响范围，最终输出晶体缺陷的质量判定结果。本申请提高了缺陷检测精度与可靠性，特别适用于高精度氟化钙晶体质量控制。

本发明授权氟化钙晶体缺陷检测系统及方法在权利要求书中公布了：1.氟化钙晶体缺陷检测方法，其特征在于，包括： 获取待检测的氟化钙晶体，进行预处理，得到第一状态信息；其中，所述第一状态信息用于记录所述氟化钙晶体在检测过程中的基准位置和环境参数； 对所述氟化钙晶体进行光学均匀性检测，获取所述氟化钙晶体的干涉条纹图；对所述干涉条纹图执行图像处理并基于所述第一状态信息，得到用于表征折射率分布的第一光程差数据； 对所述氟化钙晶体进行应力双折射检测，获取所述氟化钙晶体的偏振态变化数据；对所述偏振态变化数据执行解算处理并基于所述第一状态信息，得到用于表征应力分布的第一应力场数据； 将所述第一光程差数据与所述第一应力场数据进行关联分析，生成缺陷定位信息；其中，所述缺陷定位信息包括：缺陷位置、缺陷强度以及疑似缺陷的应力影响范围； 根据所述缺陷定位信息，对所述氟化钙晶体的缺陷区进行量化评估，生成质量判定结果，并基于所述质量判定结果输出检测报告； 所述得到用于表征折射率分布的第一光程差数据包括：基于所述基准位置，建立像素坐标与氟化钙晶体物理坐标之间的配准模型，并对经降噪处理后的干涉条纹图执行坐标变换处理，得到配准后的干涉条纹图；对所述配准后的干涉条纹图执行相位解包裹算法，获取表征氟化钙晶体折射率分布的相位信息；基于所述环境参数，对所述相位信息进行补偿计算，得到第一光程差数据； 所述获取表征氟化钙晶体折射率分布的相位信息包括：对所述配准后的干涉条纹图进行二维相位转换，得到初始包裹相位图；基于预设的相位梯度阈值，识别所述初始包裹相位图中存在的相位跃变区域，并在相位跃变区域沿相位梯度建立剪切线； 对所述剪切线两侧的相位数据依次进行去缠绕处理，生成局部解包裹相位图；对各局部解包裹相位图执行拼接融合，得到完整的全局解包裹相位图；对所述全局解包裹相位图执行降噪处理，以得到最终表征氟化钙晶体折射率分布的相位信息； 所述相位解包裹算法包括：在识别相位跃变区域的同时，从所述第一应力场数据中提取应力集中区域的像素坐标，并为对应的相位跃变区域设置自适应的相位梯度阈值；对所述应力集中区域内的剪切线两侧相位数据执行多次迭代去缠绕处理，生成局部解包裹相位图； 在全局拼接融合过程中，根据所述应力集中区域的应力分布，对解包裹相位执行局部相位偏移校正；将经过局部相位偏移校正的局部解包裹相位图与其它区域的解包裹相位图进行拼接融合，得到最终表征氟化钙晶体折射率分布的全局相位信息； 所述生成局部解包裹相位图包括：在每次迭代开始前，基于所述第一状态信息中的环境参数，查找并加载与当前环境条件对应的阈值修正规则和迭代步长修正规则，对相位梯度阈值及迭代步长进行更新；采用更新后的相位梯度阈值与迭代步长，对剪切线两侧的相位数据进行逐轮迭代去缠绕操作； 在每次迭代结束后，利用所述第一状态信息中的基准位置，对局部解包裹相位与氟化钙晶体物理坐标的配准模型进行增量更新，记录更新后的配准模型；当迭代次数达到预先设置的上限，或所述迭代过程中的相位差变化量低于预设阈值时，输出所述应力集中区域对应的局部解包裹相位图。

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