京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司;北京京东方技术开发有限公司王耀杰获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请的专利显示基板及其制备方法和显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120018714B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510173936.2,技术领域涉及:H10K59/122;该发明授权显示基板及其制备方法和显示装置是由王耀杰;黄淼鑫;杨宗顺;徐立元;汪锐;胡瑶瑶;崔勇设计研发完成,并于2025-02-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示基板及其制备方法和显示装置在说明书摘要公布了:提供一种显示基板包括:衬底基板;驱动电路层;第一电极层,包括第一电极,第一电极与驱动电路层电连接;隔断层,包括像素开口;以及发光功能层;隔断层包括至少一个间隔开口,间隔开口位于相邻的两个像素开口之间,隔断层面向间隔开口的侧面具有第一底切结构;发光功能层包括电荷产生层,电荷产生层的至少一部分在第一底切结构处断开;以及显示基板还包括至少一个支撑柱,支撑柱位于驱动电路层远离衬底基板的一侧,支撑柱的至少一部分在衬底基板上的正投影位于间隔开口在衬底基板上的正投影内,且支撑柱与第一底切结构间隔设置,电荷产生层的至少一部分位于支撑柱远离衬底基板的一侧,电荷产生层的至少另一部分位于支撑柱与相邻的第一底切结构之间。
本发明授权显示基板及其制备方法和显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示基板,其中,所述显示基板包括: 衬底基板; 驱动电路层,位于所述衬底基板上; 第一电极层,位于所述驱动电路层远离所述衬底基板的一侧,所述第一电极层包括第一电极,所述第一电极与所述驱动电路层电连接; 隔断层,位于所述第一电极层远离所述衬底基板的一侧,所述隔断层包括像素开口,所述像素开口暴露所述第一电极的至少一部分;以及 发光功能层,位于所述隔断层远离所述衬底基板的一侧,所述发光功能层的一部分位于所述像素开口内并与所述第一电极接触, 其中,所述隔断层包括至少一个间隔开口,所述间隔开口位于相邻的两个所述像素开口之间,所述隔断层面向所述间隔开口的侧面具有第一底切结构; 所述发光功能层包括第一发光功能子层、位于所述第一发光功能子层远离所述衬底基板一侧的电荷产生层和位于所述电荷产生层远离所述衬底基板一侧的第二发光功能子层,所述电荷产生层的至少一部分在所述第一底切结构处断开;以及 所述显示基板还包括至少一个支撑柱,所述支撑柱位于驱动电路层远离所述衬底基板的一侧,所述支撑柱的至少一部分在所述衬底基板上的正投影位于所述间隔开口在所述衬底基板上的正投影内,且所述支撑柱与所述第一底切结构间隔设置,所述电荷产生层的至少一部分位于所述支撑柱远离所述衬底基板的一侧,所述电荷产生层的至少另一部分位于所述支撑柱与相邻的所述第一底切结构之间。
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