阈限空间公司纳撒尼尔·胡贝尔获国家专利权
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龙图腾网获悉阈限空间公司申请的专利具有光学隔离的光发射器的立体显示模块和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119828355B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311721499.0，技术领域涉及：G02B30/00；该发明授权具有光学隔离的光发射器的立体显示模块和系统是由纳撒尼尔·胡贝尔设计研发完成，并于2023-12-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有光学隔离的光发射器的立体显示模块和系统在说明书摘要公布了：本发明提供了装置、系统和方法，其中，光发射器通过高不透明度填料彼此光学隔离，导致大部分发射光穿过偏振器。理想地，该布置使得来自光发射器的所有光要么被高不透明度填充材料吸收，要么向上通过可选的漫射器、偏振器，然后穿过用于保护偏振器的低不透明度涂层。实际上，离开设备的光的至少45％穿过偏振器，更优选地离开设备的光的至少75％或甚至至少90％穿过偏振器。
本发明授权具有光学隔离的光发射器的立体显示模块和系统在权利要求书中公布了：1.一种显示模块，包括： 基板； 在所述基板上方延伸的间隔开的至少第一组光发射器和第二组光发射器的矩阵； 第一偏振器和第二偏振器，分别设置在所述第一组光发射器和所述第二组光发射器的上方； 高不透明度填料，在所述第一组光发射器和所述第二组光发射器之间延伸，并且设置在至少高达所述第一偏振器和所述第二偏振器中的每一个的底部的高度处； 低不透明度涂层，设置在所述第一偏振器和所述第二偏振器上方； 第一漫射器和第二漫射器，分别设置在所述第一偏振器和所述第二偏振器下方；以及 其中，所述高不透明度填料围绕所述第一组光发射器、所述第一漫射器和所述第一偏振器设置，使得从所述第一组光发射器离开所述矩阵的在400和750纳米之间的光的至少总量的45％的强度穿过所述第一偏振器。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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