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龙图腾网获悉上海华虹宏力半导体制造有限公司申请的专利提取最小重复单元方法、OPC验证方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119200318B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411361756.9，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权提取最小重复单元方法、OPC验证方法及装置是由张瑛;金晓亮设计研发完成，并于2024-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本提取最小重复单元方法、OPC验证方法及装置在说明书摘要公布了：一种提取最小重复单元方法、OPC验证方法及装置，其中OPC验证方法包括：获取掩膜版图形，所述掩膜版图形中包括具有重复单元阵列的IP图形；提取所述掩模版图形中的最小重复阵列，所述最小重复阵列包括所有类型的IP图形，且每个类型的IP图形至少有一个；将所述最小重复阵列中所有类型的IP图形与数据库中的IP图形进行一一对应匹配，以获取比对结果；根据比对结果，确认OPC验证完成。通过将掩膜版图形中的最小重复阵列提取出来，且由于最小重复阵列包括掩膜版图形中所有类型的IP图形，使得后续针对最小重复阵列进行OPC验证，同时能够实现对整个掩膜版图形的OPC验证，能够有效减少OPC验证时间，提高OPC验证效率。

本发明授权提取最小重复单元方法、OPC验证方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种提取最小重复单元方法，其特征在于，包括： 获取掩膜版图形，所述掩膜版图形中包括具有重复单元阵列的IP图形； 提取所述掩膜版图形中的最小重复阵列，所述最小重复阵列包括所有类型的IP图形，且每个类型的IP图形至少有一个； 其中，提取所述掩膜版图形中的最小重复阵列的步骤包括：对所述掩膜版图形中的所有IP图形进行扫描，将所述掩膜版图形中同一类IP图形提取出来，得到若干类IP图形； 对所述掩膜版图形中的所有IP图形进行扫描，将所述掩膜版图形中同一类IP图形提取出来，得到若干类IP图形的步骤包括： 根据所述掩膜版图形的尺寸，设置若干第一扫描线和若干第二扫描线，所述第一扫描线和所述第二扫描线互相垂直，且若干第一扫描线和若干第二扫描线呈网格状分布； 设置若干所述第一扫描线和若干所述第二扫描线的扫描间隔数据； 根据所述扫描间隔数据，驱动若干所述第一扫描线和若干所述第二扫描线同时所述掩膜版图形中的所有IP图形开始扫描，得到扫描数据； 根据扫描数据，将所述掩膜版图形中同一类IP图形提取出来，得到若干类IP图形。

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