北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司郭越获国家专利权
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龙图腾网获悉北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请的专利立体显示基板和显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118938508B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310478445.X,技术领域涉及:G02B30/00;该发明授权立体显示基板和显示装置是由郭越;杨炜帆;周星;杜鸿川;王剑波;张赫扬;赵天晖;李宝曼设计研发完成,并于2023-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本立体显示基板和显示装置在说明书摘要公布了:提供一种显示基板和显示装置。显示基板包括:衬底基板;显示单元,设置在衬底基板一侧,显示单元包括多个像素单元,多个像素单元在第一方向和第二方向上呈阵列结构,多个像素单元在第一方向上具有周期像素宽度Δx;第一介质层,设置在显示单元的远离衬底基板的一侧;柱透镜光栅单元,设置在第一介质层远离衬底基板的一侧,柱透镜光栅单元包括硬质基底以及沿第一方向连续设置的多个柱透镜,每个柱透镜具有宽度P;立体显示基板在第三方向上具有最佳显示效果的预设视场位置,第三方向垂直于第一方向和第二方向;在第一方向上,每个柱透镜的宽度P从视场原点朝向远离视场原点的方向呈增加趋势。
本发明授权立体显示基板和显示装置在权利要求书中公布了:1.一种立体显示基板,其中,包括: 衬底基板; 显示单元,设置在所述衬底基板一侧,所述显示单元包括多个像素单元,所述多个像素单元在第一方向和第二方向上呈阵列结构,所述多个像素单元在所述第一方向上具有周期像素宽度,所述第一方向和第二方向相交; 第一介质层,设置在所述显示单元的远离衬底基板的一侧; 柱透镜光栅单元,设置在所述第一介质层远离衬底基板的一侧,所述柱透镜光栅单元包括硬质基底以及沿第一方向连续设置的多个柱透镜,每个柱透镜的宽度为P; 其中,所述立体显示基板在第三方向上具有最佳显示效果的预设视场位置,所述第三方向垂直于所述第一方向和所述第二方向; 在所述第一方向上,所述柱透镜的宽度P从视场原点朝向远离所述视场原点的方向呈增加趋势,所述视场原点为所述第三方向与所述第一方向和所述第二方向相交处,所述预设视场位置在第三方向上与所述视场原点的间距为; 每个柱透镜的宽度P是根据所述多个柱透镜的预设柱透镜数目m和周期像素宽度中的至少一个以及折射像素间距yk计算得到的,所述折射像素间距yk为考虑折射的第k个柱透镜对应的像素单元与所述视场原点的间距,k为大于0的整数, 所述折射像素间距yk与柱透镜的原始像素间距yo的差值小于等于串扰极限M,所述串扰极限与所述像素单元在第一方向的宽度相关联,所述原始像素间距yo为不考虑折射的所述第k个柱透镜对应的像素单元与所述视场原点的间距。
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