华中科技大学安子民获国家专利权
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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种线扫描表面测量抗振方法和测量系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118654599B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410690669.1,技术领域涉及:G01B11/25;该发明授权一种线扫描表面测量抗振方法和测量系统是由安子民;刘晓军;王帅设计研发完成,并于2024-05-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种线扫描表面测量抗振方法和测量系统在说明书摘要公布了:本发明属于精密测量相关技术领域,公开了一种线扫描表面测量抗振方法,并公开了一种线光谱共焦扫描表面抗振测量系统。该测量系统包括光源、第一狭缝、线性色散模块、第二狭缝、第三狭缝和成像单元,第一狭缝中心设置有两条正交的狭缝,用于将光源的光线转化为相互正交的两束光线;线性色散模块用于将相互正交的两束光线色散并聚焦在待测样品表面形成两条正交的测量光线;第二、三狭缝的方向分别与第一狭缝中两条狭缝的方向相同,两条正交的测量光线分别经过第二、三狭缝后进入各自的成像单元中,进而获得待测样品表面轮廓。扫描表面测量中,对不断获得的表面轮廓数据进行处理,解决线扫描表面测量中的振动影响问题,实现线扫描表面抗振测量。
本发明授权一种线扫描表面测量抗振方法和测量系统在权利要求书中公布了:1.一种线扫描表面抗振的测量系统,其特征在于,该测量系统包括依次设置的光源1、第一狭缝2、线性色散模块、第二狭缝10、第三狭缝17和成像单元,其中: 所述第一狭缝2中心设置有两条正交的狭缝,用于将所述光源1的光线转化为相互正交的两束光线;所述线性色散模块用于来自所述第一狭缝2的相互正交的两束光线进行色散并按照波长从高到低或者从低到高的顺序垂直聚焦在待测样品6表面,被待测样品6表面反射产生两条正交的测量光线; 所述线性色散模块和所述第二狭缝10和第三狭缝17形成共焦结构,所述第二狭缝10和第三狭缝17的方向分别与所述第一狭缝2中的两条狭缝的方向相同,所述成像单元包括第一成像单元和第二成像单元,所述第一成像单元和第二成像单元分别设置在所述第二狭缝10和第三狭缝17后方; 两条正交的测量光线分别经过所述第二狭缝10和第三狭缝17后进入所述第一成像单元和第二成像单元,从两个正交的方向成像待测样品6的表面轮廓,进而获得待测样品6两个正交方向的表面轮廓; 所述测量系统与待测样品6相对运动实现对待测样品6表面的扫描,该扫描的方向与第二狭缝10和第三狭缝17的方向相同; 与所述扫描方向相同的狭缝所在的成像单元获取的表面轮廓数据用于计算振动,将该计算获得的振动用于补偿与所述扫描方向正交的狭缝所在的成像单元获取的表面轮廓,以此获得消除振动后的待测样品6表面轮廓。
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