上海凯世通半导体股份有限公司;上海临港凯世通半导体有限公司;北京凯世通半导体有限公司夏世伟获国家专利权
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龙图腾网获悉上海凯世通半导体股份有限公司;上海临港凯世通半导体有限公司;北京凯世通半导体有限公司申请的专利一种微波等离子体喷枪获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118400857B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311828106.6，技术领域涉及：H05H1/46；该发明授权一种微波等离子体喷枪是由夏世伟;朱玲;王宇琳;洪俊华;杨立军;孟庆栋;张晓峰设计研发完成，并于2023-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种微波等离子体喷枪在说明书摘要公布了：本发明公开了一种微波等离子体喷枪，可用于半导体加工技术领域中的离子注入机。本发明的微波等离子体喷枪，包括微波发生器、波导组件、等离子体腔室、工作气体供给装置以及介质管和导电杆。其中，介质管的开口端设置在等离子体腔室的外部并连接至波导组件，封闭端设置在等离子体腔室的内部；导电杆共轴地设置在介质管的内腔，其第一端延伸至介质管的开口端，第二端则延伸至介质管的封闭端。本发明的微波等离子体喷枪，不仅可以大大降低金属污染，而且其提供的电子分布均匀，能够更好地实现电荷中和反应。
本发明授权一种微波等离子体喷枪在权利要求书中公布了：1.一种微波等离子体喷枪，其特征在于，包括： 微波发生器； 波导组件，用于传输所述微波发生器产生的微波； 等离子体腔室，所述等离子体腔室的第一侧设置有开口，在所述等离子体腔室内所述微波作用于工作气体以产生等离子体； 工作气体供给装置，用于向所述等离子体腔室提供所述工作气体； 介质管，具有开口端和封闭端，所述开口端设置在所述等离子体腔室的外部并连接至所述波导组件，所述封闭端设置在所述等离子体腔室的内部； 导电杆，所述导电杆共轴地设置在所述介质管的内腔，所述导电杆的第一端延伸至所述介质管的所述开口端，所述导电杆的第二端延伸至所述介质管的所述封闭端， 所述介质管贯穿所述等离子体腔室的第一端部，所述封闭端延伸至所述等离子体腔室的与所述第一端部相对的第二端部处，所述第二端部的中心部设置有凹部，所述凹部内收纳所述介质管的所述封闭端， 所述等离子体腔室的所述开口为一条狭缝，所述狭缝的长度方向与所述介质管在所述等离子体腔室内的长度方向一致。
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