中国舰船研究设计中心蔡垚获国家专利权
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龙图腾网获悉中国舰船研究设计中心申请的专利舱底屏蔽和堆底屏蔽相结合的船用底部屏蔽结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117637198B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311581007.2，技术领域涉及：G21C11/04；该发明授权舱底屏蔽和堆底屏蔽相结合的船用底部屏蔽结构是由蔡垚;郝锐;余少杰;王畅;沈震宇设计研发完成，并于2023-11-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本舱底屏蔽和堆底屏蔽相结合的船用底部屏蔽结构在说明书摘要公布了：本发明公开了一种舱底屏蔽和堆底屏蔽相结合的船用底部屏蔽结构，包括位于船体双层底下板上的舱底屏蔽结构和堆底屏蔽结构、以及位于船体双层底上板上的堆舱屏蔽结构和一次屏蔽结构，其中，一次屏蔽结构包裹于反应堆压力容器外部，堆舱屏蔽结构位于一次屏蔽结构外侧，舱底屏蔽结构位于堆底屏蔽结构的外侧，堆底屏蔽结构位于一次屏蔽结构的下方。本发明提出的舱底屏蔽和堆底屏蔽相结合的船用底部屏蔽结构，其结构简单，可与堆舱屏蔽、一次屏蔽及船体下方海水构成完整的辐射屏蔽系统，最大限度地减弱堆舱内辐射向周边区域的泄露，保证周边区域人员、设备辐射安全。
本发明授权舱底屏蔽和堆底屏蔽相结合的船用底部屏蔽结构在权利要求书中公布了：1.一种舱底屏蔽和堆底屏蔽相结合的船用底部屏蔽结构，其特征在于，包括位于船体双层底下板上的舱底屏蔽结构和堆底屏蔽结构、以及位于船体双层底上板上的堆舱屏蔽结构和一次屏蔽结构，其中， 所述一次屏蔽结构包裹于反应堆压力容器外部，堆舱屏蔽结构位于一次屏蔽结构外侧，舱底屏蔽结构位于堆底屏蔽结构的外侧，堆底屏蔽结构位于一次屏蔽结构的下方；所述舱底屏蔽结构和堆底屏蔽结构均围合形成封闭结构，舱底屏蔽结构和堆底屏蔽结构均与船体结构密封连接。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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