华为技术有限公司杨奉佑获国家专利权
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龙图腾网获悉华为技术有限公司申请的专利用于光源掩模优化的方法、设备、存储介质及程序产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117289542B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210687098.7，技术领域涉及：G03F1/68；该发明授权用于光源掩模优化的方法、设备、存储介质及程序产品是由杨奉佑;苏晓菁;董立松设计研发完成，并于2022-06-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光源掩模优化的方法、设备、存储介质及程序产品在说明书摘要公布了：本申请提供了用于光源掩模优化的方法、设备、存储介质及程序产品，应用于半导体领域。该方法包括获取测试图形和测试光源；当检测到所述测试光源和所述测试图形组合下的光刻成像质量满足对应的光刻工艺条件时，获取辅助图形放置规则；根据所述辅助图形放置规则与所述测试图形得到待优化图形；将所述待优化图形作为第一优化的输入，对所述待优化图形进行第一优化，得到第一图形，通过提前根据辅助图形放置规则将辅助图形放置至测试图形得到待优化图形，后续直接对待优化图形进行优化，减少生成辅助图形的相关操作，进而可以减少计算量，减少计算时间，提高效率。
本发明授权用于光源掩模优化的方法、设备、存储介质及程序产品在权利要求书中公布了：1.一种用于光源掩模优化的方法，其特征在于，所述方法包括： 获取测试图形和测试光源； 当检测到所述测试光源和所述测试图形组合下的光刻成像质量满足对应的光刻工艺条件时，获取辅助图形放置规则； 根据所述辅助图形放置规则与所述测试图形得到待优化图形； 将所述待优化图形作为第一优化的输入，对所述待优化图形进行所述第一优化，得到第一图形。
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