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龙图腾网获悉中国科学院微电子研究所申请的专利基于表面等离激元的成像传感方法、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116499968B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210055876.0，技术领域涉及：G01N21/01；该发明授权基于表面等离激元的成像传感方法、设备及存储介质是由孙晓娟;路鑫超;刘虹遥;王畅;孙旭晴设计研发完成，并于2022-01-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于表面等离激元的成像传感方法、设备及存储介质在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于表面等离激元的成像传感方法、设备及存储介质，通过获取待测介质对应的表面等离激元干涉图像，基于表面等离激元干涉图像，得到待测介质对应的干涉特征值如表面等离激元干涉条纹周期值和或干涉极大值间距；基于干涉特征值以及表征介质折射率与干涉特征参数之间对应关系的预设关系模型，确定待测介质的折射率，从而实现对待测介质的折射率检测，有利于提高波长调制表面等离激元共振传感效率。

本发明授权基于表面等离激元的成像传感方法、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种基于表面等离激元的成像传感方法，其特征在于，所述方法包括： 获取待测介质对应的表面等离激元干涉图像，其中，所述待测介质位于激发芯片中，所述激发芯片包括：镀金属膜的透明基底，所述金属膜上附着有分散的纳米颗粒，所述待测介质与所述金属膜形成金属-介质界面，所述干涉图像为所述激发芯片上激发的表面等离激元沿所述金属-介质界面传播，与单个所述纳米颗粒散射的表面等离激元发生干涉形成的； 基于所述表面等离激元干涉图像，得到所述待测介质对应的干涉特征值，所述干涉特征值包括：表面等离激元干涉条纹周期值和干涉极大值间距，所述干涉极大值间距为一级干涉亮条纹在第a个等相位面处的间距，其中，a为大于或等于3且小于或等于6的整数； 基于所述干涉特征值以及预设关系模型，确定所述待测介质的折射率，所述预设关系模型用于表征介质折射率与所述干涉特征值对应的干涉特征参数的对应关系； 其中，所述预设关系模型包括第一关系子模型和第二关系子模型，所述基于所述干涉特征值以及预设关系模型，确定所述待测介质的折射率，包括：基于所述干涉条纹周期值以及所述第一关系子模型，得到第一参考折射率，所述第一关系子模型用于表征介质折射率与表面等离激元干涉条纹周期的对应关系；基于所述干涉极大值间距以及所述第二关系子模型，得到第二参考折射率，所述第二关系子模型用于表征介质折射率与表面等离激元干涉条纹的极大值间距之间的对应关系；基于所述第一参考折射率和所述第二参考折射率，得到所述待测介质的折射率。

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