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龙图腾网获悉合肥高维数据技术有限公司;中国科学技术大学申请的专利保持统计特征的数据库水印修改方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116401235B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310446046.5，技术领域涉及：G06F16/21；该发明授权保持统计特征的数据库水印修改方法是由张卫明;田辉;任志文;俞能海;郭玉刚;张志翔;马泽华设计研发完成，并于2023-04-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本保持统计特征的数据库水印修改方法在说明书摘要公布了：本发明特别涉及一种保持统计特征的数据库水印修改方法，包括如下步骤：确定数据库中可嵌入水印的数值属性列，记为X列；确定数据库中与X列相关的数值属性列，记为Ym列，其中m=1,2,3，…；根据公式以及超参数k1、k2、kx、kmy以及α构造残差列R,α是从N列随机抽样得到的且N列是独立于X列和Ym列的标准正态分布；将X列加上R列得到含水印信息的XW列。该方案在水印嵌入过程中保留了数据的统计特征，从而不影响数据库的统计分析；采用这种修改方案，可以自动计算出修改值，而且对于每个数值，可以有多种修改值，从而可以根据其他的需要选择出更优选的修改方式。

本发明授权保持统计特征的数据库水印修改方法在权利要求书中公布了：1.一种保持统计特征的数据库水印修改方法，其特征在于：包括如下步骤： 确定数据库中可嵌入水印的数值属性列，记为X列，其中所述确定数据库中可嵌入水印的数值属性列根据如下步骤筛选得到： 判断该列存储的内容是否为浮点型数据，若是则进入下一步，否则该列为不可嵌入水印的列；判断该列存储的数值是否可以进行小比例修改，若是则该列可作为X列，否则该列为不可嵌入水印的列； 确定数据库中与X列相关的数值属性列，记为Ym列，其中m=1,2,3，…； 根据如下公式构造残差列，记为R列：； 式中，i＝1,2,3,…，n，n为数据库行数；ri、xi、ymi分别为R列、X列、Ym列第i行的数值；k1、k2、kx、kmy是超参数；α是从N列随机抽样得到的且N列是独立于X列和Ym列的标准正态分布，其中所述超参数k1、k2、kx、kmy通过如下步骤计算得到： 预设R列的方差为任一大于0的常数； 根据X列和XW列统计特征不变的特性构建等式； 将X列和Ym列的统计特征以及R列的方差代入构建的等式中得到M+3元方程组； 求解方程组得到超参数k1、k2、kx、kmy； 所述的数据库中与X列相关的数值属性列只有一列，记为Y列，超参数k1、k2、kx、ky根据如下公式计算得到： ； 式中，uX、uY分别为X列和Y列的期望，分别为R列、X列、Y列的方差，为X列和Y列的协方差，为X列和Y列的相关系数； 将X列加上R列得到含水印信息的XW列。

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