买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉宁波德图科技有限公司申请的专利光栅建模方法及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115935758B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211714116.2，技术领域涉及：G06F30/23；该发明授权光栅建模方法及存储介质是由郑宇腾;蒲菠;范峻设计研发完成，并于2022-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本光栅建模方法及存储介质在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光栅建模方法，其基于周期有限元，包括：建立关于β的本征值问题的表达式求解出其特征向量；对关于β的本征值问题的表达式添加周期性边界条件，通过矩阵乘积构造映射矩阵P，使用该映射矩阵P得到周期边界条件下的本征值问题表达式；得到光栅‑空气分界面靠近空气一侧的电磁场分布表示为平面波的叠加；假设各个模式的反射系数为透射系数为通过场在分界面上的切向连续条件方程；求解上述方程，得到反射系数为透射系数为建立光栅结构的透射和反射模型。本发明可适用于任意单元形状的光栅问题，能适用于介质、金属等多种光栅材质，满足多样化的应用需求，且能保证物理机理的真实性和计算的精度。

本发明授权光栅建模方法及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光栅建模方法，其基于周期有限元，其特征在于，包括如下步骤： 步骤一、使用有限元方法求解二维光栅结构的电磁场分布，建立关于β的本征值问题的表达式求解出其特征向量，每个特征向量对应一个电磁传播的模式； 步骤二、对关于β的本征值问题的表达式添加周期性边界条件，通过矩阵乘积构造映射矩阵P，使用该映射矩阵P将普通二维有限元本征值方程A·x＝-β2B·x，转换为周期边界条件下的本征值问题表达式； P*|·A·P·x＝-β2P*·B·P·x3 P*为矩阵P的共轭转置，获得周期结构的电磁场模式分布，光栅-空气分界面靠近光栅一侧的电磁场表示为各个模式的加权叠加； 步骤三、根据Floquet定理得到光栅-空气分界面靠近空气一侧的电磁场分布表示为平面波的叠加； 步骤四、假设各个模式的反射系数为透射系数为通过场在分界面上的切向连续条件，建立如下方程； 其中，E＝[Ex,Ey]T，H＝[Hx,Hy]T，矩阵中Ex,Ey,Hx,Hy电、磁场分量与平面波函数的内积； 矩阵中的各个子矩阵为Ky＝diag[ky,0,…,ky,m]，Kx＝diag[kx,0,…,kx,n]，Kz＝diag[kz,00,…,kz,mn]； 步骤五、求解上述方程，得到反射系数为透射系数为建立光栅结构的透射和反射模型。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人宁波德图科技有限公司，其通讯地址为：315899 浙江省宁波市北仑区宝山路527号金融大厦1801；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。