京东方科技集团股份有限公司张栋梁获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利一种光栅结构及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115480331B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211142524.5，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权一种光栅结构及其制备方法是由张栋梁;谷新;郭康;张笑;李多辉;宋梦亚;段正;陈宏设计研发完成，并于2022-09-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光栅结构及其制备方法在说明书摘要公布了：本公开提供一种光栅结构及其制备方法，属于显示技术领域。本公开的光栅结构，其包括衬底基板，以及设置在所述衬底基板上的第一光栅，所述第一光栅为闪耀光栅，所述第一光栅包括间隔设置的多个第一子结构；其中，所述第一光栅满足以下条件至少之一：所述第一光栅的材料的折射率为1.1～2.0；所述第一光栅的周期为200～800nm；所述第一光栅的占空比为0.1～0.9；所述第一光栅的高度为200～600nm。
本发明授权一种光栅结构及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种光栅结构，其包括衬底基板，以及设置在所述衬底基板上的第一光栅，所述第一光栅为闪耀光栅，所述第一光栅包括间隔设置的多个第一子结构；所述第一子结构为直角三角形；其中，所述第一光栅满足以下条件至少之一： 所述第一光栅的材料的折射率为1.1～2.0； 所述第一光栅的周期为200～800nm； 所述第一光栅的占空比为0.1～0.9； 所述第一光栅的高度为200～600nm； 所述光栅结构还包括设置在所述第一光栅靠近所述衬底基板一侧的第二光栅；所述第二光栅和所述第一光栅依次叠置在所述衬底基板上； 所述第二光栅的周期和占空比分别与所述第一光栅的周期和占空比一致；所述第二光栅包括间隔设置的多个第二子结构，所述第二子结构包括矩形块；所述第二子结构与所述第一子结构一一对应设置；所述第二光栅的狭缝与所述第一光栅的狭缝对应设置，且对于对应设置的所述第二光栅的狭缝和所述第一光栅的狭缝，二者相互连通； 所述第一光栅的材料和所述第二光栅的材料相同，且所述第一光栅和所述第二光栅为一体结构。
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