苏州精材半导体科技有限公司;北京精材半导体科技有限公司朴钟熏获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉苏州精材半导体科技有限公司;北京精材半导体科技有限公司申请的专利连续式环形气相沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223752893U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423311034.0，技术领域涉及：C23C16/54；该实用新型连续式环形气相沉积设备是由朴钟熏;崔海珍;金锡津设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本连续式环形气相沉积设备在说明书摘要公布了：本申请涉及化学气相沉积技术领域，特别地涉及一种连续式环形气相沉积设备，包括：主体装置以及环形输送装置，所述主体装置罩设在所述环形输送装置上，所述主体装置沿着所述环形输送装置的转动方向依次形成有准备室、反应室和热处理室；气体支持装置，与所述主体装置连接，用于为所述主体装置提供气体环境；反应容器，能够被放置在所述主体装置内，所述反应容器能够在所述环形输送装置上的带动下圆周运动并依次经过所述准备室、所述反应室和所述热处理室；所述气体支持装置能够与位于所述准备室、所述反应室和所述热处理室中的任意一个中的所述反应容器连接，并为所述反应容器提供对应的气体环境。
本实用新型连续式环形气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种连续式环形气相沉积设备，其特征在于，包括： 主体装置以及环形输送装置，所述主体装置罩设在所述环形输送装置上，所述主体装置沿着所述环形输送装置的转动方向依次形成有准备室、反应室和热处理室； 气体支持装置，与所述主体装置连接，用于为所述主体装置提供气体环境； 反应容器，能够被放置在所述主体装置内，所述反应容器能够在所述环形输送装置上的带动下圆周运动并依次经过所述准备室、所述反应室和所述热处理室； 所述气体支持装置能够与位于所述准备室、所述反应室和所述热处理室中的任意一个中的所述反应容器连接，并为所述反应容器提供对应的气体环境。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人苏州精材半导体科技有限公司;北京精材半导体科技有限公司，其通讯地址为：215127 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区启明路8号综合保税区B区H厂房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励