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龙图腾网获悉苏州天禄光科技股份有限公司申请的专利导光板缺陷样本增强与检测一体化方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120908212B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511431629.6，技术领域涉及：G01N21/95；该发明授权导光板缺陷样本增强与检测一体化方法是由梅坦;李红军设计研发完成，并于2025-10-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本导光板缺陷样本增强与检测一体化方法在说明书摘要公布了：本发明公开了导光板缺陷样本增强与检测一体化方法，涉及导光板检测技术领域，包括：基于导光板的正视图对所有网点进行标记；使用同距分析法获取同距缺陷特征；使用邻距网点分析法获取邻距缺陷影响特征；当对导光板进行缺陷检测时，获取导光板内的缺陷样本区域以及影响检测区域；本发明用于解决现有的导光板缺陷样本增强与检测方法中，在导光板内的网点缺陷检测方面，无法基于网点的缺陷类型，对受网点影响导致存在缺陷隐患，但因缺陷部位增强时检测参数较稳定，导致未被划分入瑕疵点的区域进行有效分析，造成缺陷检测精度较低的问题。

本发明授权导光板缺陷样本增强与检测一体化方法在权利要求书中公布了：1.导光板缺陷样本增强与检测一体化方法，其特征在于，包括如下步骤： 基于导光板的正视图，获取导光板中光源的入口以及所有网点的位置，并基于所有网点与光源的入口的距离，对所有网点进行标记；使用同距分析法对所有标记后的网点进行分析，并基于分析结果获取每个网点的同距缺陷特征； 基于每个网点的同距缺陷特征，获取导光板内每个网点的同距缺陷网组，并使用邻距网点分析法对所有同距缺陷网组进行分析，并基于分析结果获取每个网点的邻距缺陷影响特征； 当对导光板进行缺陷检测时，基于每个网点的同距缺陷特征以及所有同距缺陷网组内所有网点的邻距缺陷影响特征，获取导光板内的缺陷样本区域以及影响检测区域； 同距分析法包括： 基于导光板的历史使用记录，获取导光板中网点因工艺参数导致的缺陷，并分别记为工艺缺陷GQ1至工艺缺陷GQt； 对于任意一个工艺缺陷GQu以及导光板中的任意一个网点α：将网点α与网点α的所有同距网点均记为待测网点，其中，u为小于等于t且大于等于1的正整数；基于导光板的历史使用记录，将向导光板内通入次数最多的光源记为可通光源； 在所有待测网点所在的位置处放置工艺参数良好的网点，由光源点对应在导光板内的位置，向导光板内通入可通光源，获取此时正面光板图对应的灰度化影像，并记为全完好灰度影像； 使用网点比例分析法获取全完好灰度影像内每个待测网点对应的像素比例，并记为待测网点的标准比例； 网点比例分析法包括：将待测网点覆盖的所有像素点记为待测网点的标准像素点，获取所有标准像素点的灰度值，并将所有灰度值的众数记为标准灰度值；将所有标准像素点的数量记为t1，并将所有灰度值为标准灰度值的标准像素点的数量记为t2，将t2除以t1的值记为待测网点的像素比例； 在所有待测网点所在的位置处放置存在工艺缺陷GQu的网点，由光源点对应在导光板内的位置，向导光板内通入可通光源，获取此时正面光板图对应的灰度化影像，并记为全残缺灰度影像； 使用网点比例分析法获取全残缺灰度影像内每个待测网点对应的像素比例，并记为待测网点的全残缺比例； 在网点α所在的位置处放置存在工艺缺陷GQu的网点，由光源点对应在导光板内的位置，向导光板内通入可通光源，获取此时正面光板图对应的灰度化影像，并记为点残缺灰度影像； 使用网点比例分析法获取点残缺灰度影像内每个待测网点对应的像素比例，并记为待测网点的点残缺比例；将网点α的标准比例减去全残缺比例的值，记为网点α的残缺差异值； 对于除网点α以外的任意一个待测网点：当待测网点的标准比例减去点残缺比例的值小于等于残缺差异值时，将待测网点记为点残影像点； 在正板分析坐标系内将网点α与所有点残影像点拟合得到的曲线记为网点α的在工艺缺陷GQu时的同距缺陷特征； 获取所有网点在所有工艺缺陷时的同距缺陷特征； 基于每个网点的同距缺陷特征，获取导光板内每个网点的同距缺陷网组包括： 对于导光板内的任意一个网点α：将网点α在所有工艺缺陷时的同距缺陷特征内对应的所有网点，记为网点α的同距缺陷组；使用邻距网点分析法对同距缺陷组内的每个网点进行分析，并基于分析结果获取网点α的邻距缺陷影响特征； 邻距网点分析法包括： 对于同距缺陷组内的任意一个网点β：将网点β被记为网点α的同距缺陷组内的网点时，网点α的工艺缺陷记为网点β的同距影响缺陷，其中，网点β可对应多个同距影响缺陷； 将正面光板图中，以网点β为中心，每个方向与网点β最近的点记为网点β的邻距点，并将所有邻距点中处于网点α的同距缺陷组的网点在网点β的邻距点中剔除； 对于网点β的任意一个同距影响缺陷：在网点β所在的位置处放置存在同距影响缺陷的网点，由光源点对应在导光板内的位置，向导光板内通入可通光源，获取此时正面光板图对应的灰度化影像，并记为邻残缺灰度影像； 使用网点比例分析法获取邻残缺灰度影像内每个邻距点对应的像素比例，并记为邻距点的邻残缺比例；当邻距点的邻残缺比例小于邻距点的标准比例时，将邻距点记为邻影响点； 将所有邻影响点与网点β构成的散点图记为网点β的邻影响图； 获取网点β的所有同距影响缺陷对应的邻影响图； 获取同距缺陷组内所有网点的所有同距影响缺陷的邻影响图；对于任意一个工艺缺陷GQu，将所有同距影响缺陷为工艺缺陷GQu的网点的邻影响图在正板分析坐标系内构成的散点图的最小外接区域，记为网点α关于工艺缺陷GQu的缺陷影响区域； 将网点α关于所有工艺缺陷的缺陷影响区域记为网点α的邻距缺陷影响特征； 当对导光板进行缺陷检测时，基于每个网点的同距缺陷特征以及所有同距缺陷网组内所有网点的邻距缺陷影响特征，获取导光板内的缺陷样本区域以及影响检测区域包括： 当对导光板进行缺陷检测时，对于任意一个已被检测出缺陷的网点γ：将网点γ存在的缺陷记为检测缺陷，将网点γ在检测缺陷时的同距缺陷特征记为主分析区域，将网点γ的邻距缺陷影响特征中关于工艺缺陷的缺陷影响区域记为邻距点影响区域； 将主分析区域与邻距点影响区域相交的区域，记为对网点γ检测时的缺陷样本区域，并将主分析区域与邻距点影响区域中除缺陷样本区域以外的区域记为影响检测区域。

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