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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利一种曝光设备测量系统标定方法、系统、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120295069B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510738141.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种曝光设备测量系统标定方法、系统、设备及存储介质是由孙闯;崔长植;陈蕊;周天林设计研发完成，并于2025-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种曝光设备测量系统标定方法、系统、设备及存储介质在说明书摘要公布了：本发明涉及测量领域，本发明公开了一种曝光设备测量系统标定方法、系统、设备及存储介质；曝光设备测量系统标定方法包括步骤：从干涉仪镜组、工件台、掩模台、第一平面反射镜组及第二平面反射镜组获取基准数据；根据基准数据建立误差解算模型；对工件台及掩模台进行多次移动，并在每次移动后从干涉仪镜组获取对应的冗余测量数据；将所有冗余测量值代入误差解算模型以得到超定方程组；求解超定方程组以得到误差标定结果；本发明通过多位置移动策略与非线性超定方程组求解，实现了干涉仪组自标定与全误差补偿的有机结合，为面板曝光机等精密设备提供了低成本、高精度的曝光设备测量系统标定方案。

本发明授权一种曝光设备测量系统标定方法、系统、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种曝光设备测量系统标定方法，其特征在于，应用于面板曝光机运动平台测量系统，所述面板曝光机运动平台测量系统包括：控制装置以及与所述控制装置电性连接的激光器、干涉仪镜组、工件台和掩模台；所述工件台上设有第一平面反射镜组，所述掩模台上设有第二平面反射镜组；所述激光器通过光纤与所述干涉仪镜组连接，所述干涉仪镜组分别与所述第一平面反射镜组及所述第二平面反射镜组构成双工件台测量系统；所述曝光设备测量系统标定方法包括步骤： 从干涉仪镜组、工件台、掩模台、第一平面反射镜组及第二平面反射镜组获取基准数据；所述从干涉仪镜组、工件台、掩模台、第一平面反射镜组及第二平面反射镜组获取基准数据，包括：获取干涉仪镜组的初始测量值；获取干涉仪镜组的初始位置；获取工件台及掩模台的尺寸信息；获取第一平面反射镜组及第二平面反射镜组的安装位置；对初始测量值、初始位置、尺寸信息及安装位置进行数据整合，以得到基准数据； 根据基准数据建立误差解算模型；所述根据基准数据建立误差解算模型，包括：根据基准数据构建基本方程；对干涉仪镜组、第一平面反射镜组及第二平面反射镜组进行误差分析，以得到误差参数；将误差参数引入基本方程，以得到误差解算模型； 获取干涉仪镜组在工件台及掩模台进行多次移动时所对应的冗余测量数据； 将所有冗余测量值代入误差解算模型以得到超定方程组； 求解超定方程组以得到误差标定结果。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人季华实验室，其通讯地址为：528200 广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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