浙江奥首材料科技有限公司彭仁杰获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江奥首材料科技有限公司申请的专利一种低腐蚀的碱性光刻胶剥离液及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120065657B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510361588.1，技术领域涉及：G03F7/42；该发明授权一种低腐蚀的碱性光刻胶剥离液及其制备方法与应用是由彭仁杰;刘海林;张慧康设计研发完成，并于2025-03-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低腐蚀的碱性光刻胶剥离液及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明提供一种低腐蚀的碱性光刻胶剥离液及其制备方法与应用，所述低腐蚀的碱性光刻胶剥离液包括重量配比如下的各组分：金属保护剂0.1‑5份；有机碱5‑25份；极性溶剂10‑40份；超纯水15‑45份；所述金属保护剂包括水溶性的碳点和烷基磷酸酯。本发明还公开了所述低腐蚀的碱性光刻胶剥离液的制备方法：先将水溶性的碳点溶解在超纯水中，然后加入烷基磷酸酯和极性溶剂，室温下搅拌至溶液澄清后，加入有机碱搅拌均匀得到低腐蚀的碱性光刻胶剥离液。本发明低腐蚀的碱性光刻胶剥离液对铜及其合金几乎无腐蚀，在显示面板光刻胶剥离领域具有良好的应用前景和大规模推广潜力。
本发明授权一种低腐蚀的碱性光刻胶剥离液及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种低腐蚀的碱性光刻胶剥离液，其特征在于，包括重量配比如下的各组分： 金属保护剂0.1-5份； 有机碱5-25份； 极性溶剂10-40份； 超纯水15-45份； 所述金属保护剂包括水溶性的碳点和烷基磷酸酯； 所述水溶性的碳点采用柠檬酸、氨基酸、草酸和葡萄糖中一种或几种作为碳源制得。
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