南开大学董红获国家专利权
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龙图腾网获悉南开大学申请的专利一种多层EUV光刻胶的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120044760B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510188946.3，技术领域涉及：G03F7/09；该发明授权一种多层EUV光刻胶的制备方法是由董红;罗锋;单一洋设计研发完成，并于2025-02-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种多层EUV光刻胶的制备方法在说明书摘要公布了：一种多层EUV光刻胶的制备方法，涉及光刻胶技术领域，包括EUV光刻胶，及至少一层增透膜形成的覆盖结构或插层结构，所述的覆盖结构为一层或多层增透膜覆盖在EUV光刻胶上，形成单层或多层膜的覆盖结构；所述的插层结构为一层或多层增透膜插入EUV光刻胶中，形成增透膜层和光刻胶相互叠加的多层膜结构。本发明的技术效果是，本发明所得光刻胶对某一波长或者某一波段的极紫外光具有更高的曝光效率。并且具有更高的热稳定性、化学稳定性和机械稳定性：更加不易产生开裂和缺陷；更加抗热膨胀；更加不易与空气的水反应。
本发明授权一种多层EUV光刻胶的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种多层EUV光刻胶的制备方法，其特征是：包括EUV光刻胶，及至少一层增透膜形成的插层结构，所述的插层结构为一层或多层增透膜插入EUV光刻胶中，形成增透膜层和光刻胶相互叠加的多层膜结构； 增透膜层和光刻胶相互叠加的多层膜结构中，是将一层或多层增透膜插入EUV光刻胶中，其中，单层膜是利用三甲基铝和水作为前驱体交替通入，惰性气体作为载气，在100℃以下进行原子层沉积，三甲基铝通入时间为50毫秒、吹扫时间为30秒；水的通入时间为50毫秒，吹扫时间为30秒；多层膜是首先利用原子层沉积技术生长一层光学厚度为半波长厚的氧化铝层，在100℃以下进行原子层沉积，三甲基铝通入时间为50毫秒、吹扫时间为30秒，水的通入时间为50毫秒，吹扫时间为30秒；再生长一半波长厚的氧化铪层，利用四二甲胺铪和臭氧作为前驱体交替通入，惰性气体作为载气，在100℃以下进行原子层沉积，其中四二甲胺铪通入时间为50毫秒、吹扫时间为30秒，臭氧的通入时间为50毫秒，吹扫时间为30秒。
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