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龙图腾网获悉广东技术师范大学;广州大学申请的专利一种基于微分流形的集成电路表面缺陷分类方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119832299B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411859736.4，技术领域涉及：G06V10/764；该发明授权一种基于微分流形的集成电路表面缺陷分类方法是由钟智彦;王鸿鑫;胡俊敏;康慧设计研发完成，并于2024-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于微分流形的集成电路表面缺陷分类方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于微分流形的集成电路表面缺陷分类方法，包括：显微成像采集系统、图像预处理系统和缺陷图像分类系统，首先，对预处理后的集成电路图像映射至黎曼流形空间；其次，构建图像的特征描述符，获取特征向量，即可构建协方差矩阵并修正为李群流形的正定对称矩阵；然后，进一步将矩阵映射至低维李群空间，设计李群核函数；最后，实现集成电路表面多样性缺陷图像的精准分类。本发明解决了集成电路表面多样性缺陷图像快速分类的难题，提高了集成电路制造过程中的可靠性，保障了集成电路下游应用产业的品质。

本发明授权一种基于微分流形的集成电路表面缺陷分类方法在权利要求书中公布了：1.一种基于微分流形的集成电路表面缺陷分类方法，其特征在于：具体包括以下步骤： 步骤1.通过显微成像采集集成电路表面各部分的数字图像； 步骤2.将采集完成后的图像进行预处理操作； 步骤3.对预处理后的集成电路表面图像进行特征提取及分类； 所述步骤3的具体步骤包括： 步骤3.1对预处理后的集成电路图像选择合适的映射方式，将图像映射至黎曼流形空间； 步骤3.2构建图像的特征描述符，获取特征向量L； 步骤3.3通过特征向量构建协方差矩阵J； 步骤3.4修正协方差矩阵J为李群流形的正定对称矩阵X； 步骤3.5计算正定对称矩阵之间的距离D； 步骤3.6将正定对称矩阵图像描述子映射至低维李群空间，设计李群核函数； 步骤3.7实现集成电路表面缺陷图像的精准分类，形成系统的“缺陷类型库”； 所述步骤3.2的特征描述符由曲率、函数梯度、向量域的散度、位置频谱、谱值、谱梯度、弧线长度及角度特征构成，所述步骤3.2中，先对图像进行分块处理，将含有缺陷的区域构建特征描述符，其余不含缺陷部分视为无效区域，表示各种类型的缺陷特性； 所述步骤3.3通过多个特征描述符构造特征向量，再计算每个特征向量与其他特征向量之间的协方差，即构造成协方差矩阵，所述步骤3.4中若存在协方差矩阵不正定情形则先分析导致协方差矩阵存在不正定的原因，再采用相对应的增加微小的正值、正则化、主成分分析PCA的方法修正协方差矩阵为李群流形的正定对称矩阵。

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