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龙图腾网获悉华海清科股份有限公司申请的专利用于晶圆抛光的支撑组件和抛光设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118927159B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410816235.1，技术领域涉及：B24B55/00；该发明授权用于晶圆抛光的支撑组件和抛光设备是由夏佳琪;吴兴;徐海洋;许振杰设计研发完成，并于2024-06-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于晶圆抛光的支撑组件和抛光设备在说明书摘要公布了：本申请提供一种用于晶圆抛光的支撑组件和抛光设备，支撑组件包括框架、动力机构、第一防护件和第二防护件，动力机构与所述框架沿横向滑动连接且至少部分位于所述框架的下方；第一防护件具有第一避让孔，以套设在所述动力机构外，所述第一防护件连接于所述框架下方；第二防护件具有第二避让孔，以套设在所述动力机构外，且所述第二防护件与所述动力机构密封连接，所述第二防护件位于所述第一防护件的下方；所述第一防护件和所述第二防护件之间设置有间隔分布的第一防护结构和第二防护结构，所述第一防护结构和第二防护结构用于阻挡液体进入所述动力机构的内部。

本发明授权用于晶圆抛光的支撑组件和抛光设备在权利要求书中公布了：1.一种用于晶圆抛光的支撑组件，其特征在于，包括： 框架， 动力机构，安装在框架上，并相对于框架沿横向滑动，动力机构的至少部分结构位于框架的下方； 第一防护件，具有第一避让孔，以套设在动力机构外，第一防护件与框架连接，且位于框架的下方； 第二防护件，具有第二避让孔，以套设在动力机构外，且第二防护件与动力机构密封连接，以跟随动力机构同步运动，第二防护件位于第一防护件的下方； 其中，第一防护件和第二防护件之间设置有第一防护结构和第二防护结构，两者间隔分布且允许第二防护件相对于第一防护件沿横向滑动，以阻挡液体进入动力机构的内部； 第一防护结构包括两组梳齿和两组第一沟槽，两组梳齿沿横向分别位于第二防护件的两端，两组第一沟槽位于第一防护件的下表面，且沿横向分别位于第一避让孔的两侧； 每组梳齿包括间隔分布的多个梳齿，每组第一沟槽包括多个间隔分布的第一沟槽，其沿横向延伸，梳齿形状匹配的插入相应第一沟槽中； 支撑组件还包括第一真空吸管，其位于第一防护件上方，第一真空吸管的吸口朝向第二防护件的上表面，第二防护件的上表面包括第一导流斜面，用于引导液体朝向第一真空吸管流动，液体被第一真空吸管经由第一避让孔吸取； 第二防护件包括第二防护凸起，其设置于第二防护件上表面且呈环形，环绕第二避让孔，第二防护凸起插入第一避让孔中； 第二防护结构包括设置在第一防护件下表面的第一防护凸起，第一防护凸起呈环形且环绕在第一避让孔周围且位于第一避让孔和第一防护结构之间；在第二防护件相对于第一防护件滑动时，第一防护凸起与第二防护件的上表面滑动接触，第一防护凸起用于阻挡液体流动。

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