广州黑格智造信息科技有限公司方东城获国家专利权
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龙图腾网获悉广州黑格智造信息科技有限公司申请的专利颌垫生成方法、装置、存储介质和计算机设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118247430B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410345428.3，技术领域涉及：G06T17/00；该发明授权颌垫生成方法、装置、存储介质和计算机设备是由方东城;周卫明;徐顺聪;袁绍祥设计研发完成，并于2024-03-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本颌垫生成方法、装置、存储介质和计算机设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种颌垫生成方法、装置、存储介质和计算机设备。其中，该方法包括：获取三维牙齿模型；对三维牙齿模型进行处理，得到处理后的牙齿模型；根据处理后的牙齿模型和预设的约束条件，生成与三维牙齿模型匹配的目标颌垫模型。本发明解决了相关技术中设计颌垫的方式单一，无法自动生成个性化的颌垫的技术问题。
本发明授权颌垫生成方法、装置、存储介质和计算机设备在权利要求书中公布了：1.一种颌垫生成方法，其特征在于，包括： 获取三维牙齿模型； 对所述三维牙齿模型进行处理，得到处理后的牙齿模型； 根据所述处理后的牙齿模型和预设的约束条件，生成与所述三维牙齿模型匹配的目标颌垫模型； 其中，所述根据所述处理后的牙齿模型和预设的约束条件，生成与所述三维牙齿模型匹配的目标颌垫模型，包括：根据所述约束条件，在所述处理后的牙齿模型的基础上生成垫胚；对所述处理后的牙齿模型和所述垫胚进行合并处理，得到所述目标颌垫模型，其中，所述合并处理用于在所述垫胚中去除与所述处理后的牙齿模型重叠的部分； 其中，所述根据所述约束条件，在所述处理后的牙齿模型的基础上生成垫胚，包括：确定所述处理后的牙齿模型的网格模型包括的多个采样顶点；分别确定所述多个采样顶点各自的距离场；根据所述约束条件，确定所述多个采样顶点的偏置距离，所述约束条件包括以下中至少一个：颌垫厚度、最小壁厚、边缘形态及位置、颌面形态、倒凹、间隙、咬印、颌面接触、松紧度偏好、颌垫与牙齿或颌骨之间的空间距离；根据所述多个采样顶点的偏置距离和所述多个采样顶点各自的距离场，移动所述多个采样顶点；由移动后的多个采样顶点构成新的网格模型；基于所述新的网格模型，生成所述垫胚。
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