北京空间飞行器总体设计部周浩获国家专利权
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龙图腾网获悉北京空间飞行器总体设计部申请的专利一种承载与磁屏蔽一体化夹层壳结构及其设计与制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117734254B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311305888.5,技术领域涉及:B32B15/18;该发明授权一种承载与磁屏蔽一体化夹层壳结构及其设计与制造方法是由周浩;许呈锋;张啸雨;元旭津;谭沧海;许梦川;柴洪友设计研发完成,并于2023-10-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种承载与磁屏蔽一体化夹层壳结构及其设计与制造方法在说明书摘要公布了:一种承载与磁屏蔽一体化夹层壳结构及其设计与制造方法,该结构主要包括:内蒙皮、外蒙皮、以及分布于内蒙皮和外蒙皮之间的点阵芯层,其中点阵芯层沿内蒙皮外周向和或轴向紧密分布,点阵单元之间间隙尽量达到最小,强化结构力学性能。该结构中点阵芯层使用高刚度的BCC点阵胞元,承受剪切载荷,内蒙皮和外蒙皮承受面内力,使得结构具有良好的减振功能,同时具有高共振频率和磁屏蔽性能。
本发明授权一种承载与磁屏蔽一体化夹层壳结构及其设计与制造方法在权利要求书中公布了:1.一种承载与磁屏蔽一体化夹层壳结构的设计方法,所述承载与磁屏蔽一体化夹层壳结构,包括:内蒙皮,外蒙皮,以及位于内外蒙皮之间的点阵芯层;其中: 内蒙皮内部空腔用于放置敏感器件; 点阵芯层沿内蒙皮外周向和或轴向紧密分布; 内蒙皮、外蒙皮和点阵芯层均采用高磁导率材料; 所述内蒙皮、外蒙皮为具有相同轴心的圆柱形壳结构; 内蒙皮、外蒙皮和点阵芯层均采用坡莫合金材料; 点阵芯层的基本单胞形式为由若干根相互连接杆件构成的BCC点阵胞元;相邻胞元的杆件末端相连; 所述方法包括以下步骤: S1,设置内、外蒙皮和点阵芯层的设计参数初始值; S2,建立由内蒙皮、点阵芯层、外蒙皮组成的点阵夹层壳结构的有限元模型,包括:用于磁屏蔽模拟的有限元模型和用于模态计算的有限元模型; S3,根据结构使用时的位移约束情况,施加位移边界条件,进行模态计算,获得一阶固有频率f1; S4,根据在轨磁场工况,施加背景静磁场,利用麦克斯韦方程,进行剩余磁场强度计算,获得结构的静磁屏蔽效能SE1; S5,将模态计算结果和剩余磁场强度计算结果分别与一阶固有频率约束值f0和结构静磁屏蔽效能约束值SE0进行比较,若f1≥f0,且SE1≥SE0,则结构设计参数满足使用需求,结构的构型设计方案完成; 否则,逐步调整结构设计参数,直到满足f1≥f0,且SE1≥SE0。
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