株式会社理光小出祥太获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社理光申请的专利热敏记录层形成液、热敏记录介质及其生产方法以及图像记录方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117083182B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280020811.0，技术领域涉及：B41M5/333；该发明授权热敏记录层形成液、热敏记录介质及其生产方法以及图像记录方法是由小出祥太;野田和正;柴田贵裕设计研发完成，并于2022-03-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本热敏记录层形成液、热敏记录介质及其生产方法以及图像记录方法在说明书摘要公布了：提供了一种热敏记录介质，其包括载体和设置在所述载体上或上方的热敏记录层。所述热敏记录层包括由通式1表示的化合物和苯乙烯‑丙烯酸树脂，其中，在通式1中，R2是C1‑12直链、支链或脂环族烷基，被C1‑12烷基、C1‑12烷氧基、C6‑12芳基或卤原子取代的C7‑12芳烷基，或者未被取代或被C1‑12烷基、C1‑12烷氧基、C6‑12芳基或卤原子取代的C6‑12芳基，其中两个或更多个R2可以彼此相同或不同；并且A1是氢原子或C1‑4烷基，其中两个或更多个A1可以彼此相同或不同。
本发明授权热敏记录层形成液、热敏记录介质及其生产方法以及图像记录方法在权利要求书中公布了：1.一种热敏记录介质，其包括： 载体；和 设置在所述载体上或上方的热敏记录层， 其中所述热敏记录层包括由通式1表示的化合物和苯乙烯-丙烯酸树脂， [化学式1] 其中，在通式1中，R2是下列条件1至3中的一个： 1：C1-12直链、支链或脂环族烷基， 2：未被取代或被C1-12烷基、C1-12烷氧基、C6-12芳基或卤原子取代的C7-12芳烷基，和 3：未被取代或被C1-12烷基、C1-12烷氧基、C6-12芳基或卤原子取代的C6-12芳基；和 其中两个或更多个R2可以彼此相同或不同；并且 A1是氢原子或C1-4烷基，其中两个或更多个A1可以彼此相同或不同。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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